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J-GLOBAL ID：200903043938162731

遠紫外線用レジスト

Inventor：
開元 裕子

About 開元 裕子

, 
武智 敏

About 武智 敏

, 
及川 朗

About 及川 朗


Applicant, Patent owner：
富士通株式会社

About 富士通株式会社


Agent (1)： 高橋 敬四郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993267628
Publication number (International publication number)：1995120927
Application date： Oct. 26, 1993
Publication date： May. 12, 1995
Summary：
【要約】【目的】 微細パターン形成のために遠紫外線を用いる露光技術に関し、KrFエキシマレーザ光等の遠紫外領域において、透明性が高く、かつ反射光の影響が少ない露光技術を提供することを目的とする。【構成】 遠紫外領域において透明性の高いベースポリマを用い、光酸発生剤と共にブリーチング剤を用いることによって有効に反射光を低減することができる。また、ブリーチング剤を添加することによってレジストパターン上端における庇の発生を防止することができる。
Claim (excerpt)：
主としてベースポリマと光酸発生剤で構成される化学増幅型レジストと、前記化学増幅型レジストに添加されたブリーチング剤とを含む遠紫外線用レジスト。
IPC (6)：
G03F 7/039 501 ,  C08F 20/18 MMG ,  C08L101/00 LSZ ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (15)
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Cited by examiner (31)
  • 特開平3-276157
  • 特開平4-039665
  • 特開平3-229255
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