Pat
J-GLOBAL ID:200903044299675389
多孔性金属薄膜およびその製造方法
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005249623
Publication number (International publication number):2007063598
Application date: Aug. 30, 2005
Publication date: Mar. 15, 2007
Summary:
【課題】表面の孔密度が制御可能な、孔径がナノサイズの多孔性金属薄膜を提供する。【解決方法】密閉容器中でめっき液と二酸化炭素液体の混合液中、二酸化炭素の超臨界状態で電解めっきを行い、基材上に多孔性金属薄膜を形成する。【選択図】図4
Claim (excerpt):
基材上に形成した多孔性金属薄膜であって、孔の内部に、さらに1段以上の孔が形成されている孔が含まれる、多孔性金属薄膜。
IPC (5):
C25D 5/00
, C25D 17/00
, C25D 1/08
, H01M 14/00
, H01M 4/86
FI (5):
C25D5/00
, C25D17/00 F
, C25D1/08
, H01M14/00 P
, H01M4/86 B
F-Term (39):
4K024AA02
, 4K024AA03
, 4K024AA04
, 4K024AA05
, 4K024AA07
, 4K024AA09
, 4K024AA10
, 4K024AA11
, 4K024AA12
, 4K024AA14
, 4K024AB19
, 4K024CB01
, 4K024CB26
, 4K024GA16
, 5H017AA03
, 5H017AA10
, 5H017BB16
, 5H017BB17
, 5H017CC25
, 5H017DD08
, 5H017EE01
, 5H017EE04
, 5H017HH02
, 5H017HH03
, 5H018AA06
, 5H018BB01
, 5H018BB03
, 5H018BB07
, 5H018BB12
, 5H018EE02
, 5H018EE03
, 5H018EE04
, 5H032AA06
, 5H032AS01
, 5H032BB02
, 5H032BB05
, 5H032BB08
, 5H032CC11
, 5H032EE01
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
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多孔質金属箔及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-360938
Applicant:三井金属鉱業株式会社
-
多孔質金属化合物薄膜の成膜方法及び有機色素増感型太陽電池
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-199300
Applicant:株式会社ブリヂストン, 独立行政法人物質・材料研究機構
Cited by examiner (5)
-
電気メッキ等の電気化学的処理方法およびその電気化学的反応装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-401301
Applicant:吉田英夫, 宮田清蔵, 浅井美博
-
回路基板の配線形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-131163
Applicant:富士通株式会社
-
電気化学的反応方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-253572
Applicant:吉田英夫, 宮田清蔵, 浅井美博
-
電気メッキ等の電気化学的処理方法およびその電気化学的反応装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-137191
Applicant:吉田英夫, 宮田清蔵, 浅井美博
-
表面処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-223712
Applicant:吉田英夫, 旭エンジニアリング株式会社
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