導電性セグメントを周辺部分に追加したコイルを有する真空プラズマ・プロセッサ

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：吉田精孝
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2000512229
Publication number (International publication number)：2001516944
Application date： Sep. 16, 1998
Publication date： Oct. 02, 2001
Summary：

【要約】【課題】生成する磁束密度が、フラット・パネル・ディスプレイなどの、比較的大きな矩形の被加工物上でのプラズマ磁束密度が比較的均一であり、プラズマ磁束密度が被加工物の中心領域および周辺領域にわたって比較的低くなる傾向を逃れるように特に設計されたコイルを有する、新規で、かつ改良された真空プラズマ・プロセッサを提供する。【解決手段】被加工物を高周波プラズマで処理するための真空プラズマ・プロセッサは、かなりの磁束密度をプラズマの周辺部分に供給する周辺部分を含むプラズマ励起コイルを有する。周辺部分のセグメントに空間的に隣接しかつそれに電気的に接続された追加の導電性セグメントは、かなりの磁束密度を有する追加の磁束をこのプラズマ周辺部分に供給する。この追加の導体セグメントはこのコイルの4つのコーナーのそれぞれにあり、このコーナーを形成するコイル導体セグメントと並列または直列に電気的に接続される。別の実施の形態では、コイルはいくつかのネスト状の導電性コーナー・セグメントを含む。また別の実施の形態では、このコーナー・セグメントは、(1)コイルの残りの部分と同一平面上にあり、かつ(2)コイルの残りの部分よりもプラズマの近傍にある。このコイルは、それぞれが整合網の出力端子の1つと接続される内部端子と、整合網の別の出力端子にキャパシタを介して接続される出力端子とを有する、2つの電気的に並列なスパイラル様の巻線を含む。このキャパシタの値、並びにこの巻線のプラズマ高周波励起周波数に対する長さは、このコイル内を流れる電流がそれぞれ周辺および内部コイル部分で最大および最小の定在波値をとるようにする。このコイルおよび被加工物の周辺は同じ矩形の寸法および形状を有する。

Claim (excerpt)：

被加工物をプラズマで処理するための真空プラズマ・プロセッサであって、被加工物をそこに配置するようになされ、被加工物を処理するためにプラズマに変換できるガスをそのチャンバ内に導入するための入口を有する真空チャンバと、このガスに高周波(RF)磁場を結合させこのガスを励起してプラズマ状態にするように配置されたコイルとを備えており、コイルの主要部分から発生した高周波磁場は電磁遮蔽と相互作用し、この電磁遮蔽は、このコイル高周波磁場をプロセッサに関連付けられた構造に実質的に閉じ込め、かつ主要コイル部分から発生した高周波磁場と相互作用し、その相互作用は、(a)主要コイル部分の周辺部分と概して整合するプラズマの一部分で主要コイル部分から発生した高周波磁場と、(b)主要コイル部分の周辺部分と概して整合するプラズマの一部分の内部に概してあるプラズマの一部分の磁束密度に対する、主要コイル部分の周辺部分と概して整合するプラズマの一部分でのプラズマ磁束密度とを低下させる傾向があるような相互作用であり、その主要コイル部分の周辺部分は、主要コイル部分の周辺部分と概して整合するプラズマの一部分に追加の量の高周波磁場を供給するための追加のコイル構造を含み、その供給された追加の量の高周波磁場は、主要コイル部分の周辺部分と概して整合するプラズマの一部分でのプラズマ磁束密度を増加させることを特徴とする真空プラズマ・プロセッサ。

IPC (4)：

H05H 1/46 , H01L 21/3065 , H01J 37/32 , H01L 21/205

FI (4)：

H05H 1/46 L , H01J 37/32 , H01L 21/205 , H01L 21/302 B

F-Term (13)：

5F004AA01 , 5F004BA20 , 5F004BB11 , 5F004BB18 , 5F004BB22 , 5F004BC08 , 5F045AA08 , 5F045AE01 , 5F045BB02 , 5F045DP04 , 5F045EH04 , 5F045EH11 , 5F045EM05

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (10)

プラズマ発生装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-023992 Applicant：東京エレクトロン株式会社
ハイブリッドコンダクタおよび複数半径ドーム型シーリングを備えた高周波プラズマリアクタ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-028140 Applicant：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
誘導結合プラズマ・リアクタとその方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-049888 Applicant：モトローラ・インコーポレイテッド

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