X線検査装置およびX線検査装置を用いたX線検査方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (6)：深見久郎 , 森田俊雄 , 仲村義平 , 堀井豊 , 野田久登 , 酒井將行
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007067043
Publication number (International publication number)：2008224606
Application date： Mar. 15, 2007
Publication date： Sep. 25, 2008
Summary：

【課題】ターゲット面を効率よく使用できるX線検査装置を提供する。【解決手段】X線検査装置100は、センサベース22を回転させることで各X線センサ23の位置を変更し、位置を変更した後の各X線センサ23にX線が入射するように、改めてX線焦点位置となるX線の放射の起点位置を設定する。走査型X線源10は、電子ビームを偏向させることにより、電子ビームがX線源のターゲットに衝突する位置を任意の場所に容易に変更することができる。これにより、ターゲットへの累積照射時間に応じて容易に電子ビームの照射位置を移動させることができる。従って、X線検査を中断させることなくターゲットのメンテナンスを行なうことができる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

所定の位置のうちから指定された位置に設定され、入射されるX線の強度分布を検出するための検出面と、ターゲット面におけるX線焦点位置を移動させて前記X線を発生させることが可能なX線源と、前記ターゲット面の位置について前記X線焦点位置としてX線を発生させた履歴情報を記憶する記憶装置とを備える、X線照射によって対象物の検査部分を検査するためのX線検査装置を用いたX線検査方法であって、複数の第1の所定位置のうち指定された前記検出面の位置と、前記検査部分とに応じた前記X線焦点位置を設定するステップと、前記記憶装置の前記履歴情報に基づき、設定された前記X線焦点位置から発生させたX線量が所定量を超えたことを検知するステップと、前記検知結果に応じて、前記複数の第1の所定位置とは異なる、複数の第2の所定位置のうちのいずれかに前記検出面の指定位置を変更して設定するステップと、変更された前記検出面に応じて再設定された位置に、前記X線焦点位置を移動させて、前記X線を発生させるステップと、前記検出面において、前記検査部分を透過した前記X線の強度分布を検出するステップとを備える、X線検査方法。

IPC (1)：

G01N 23/04

FI (1)：

G01N23/04

F-Term (9)：

2G001AA01 , 2G001BA11 , 2G001CA01 , 2G001DA02 , 2G001HA13 , 2G001JA02 , 2G001KA03 , 2G001LA11 , 2G001MA05

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

X線断層面検査装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-140328 Applicant：株式会社島津製作所

Cited by examiner (10)

X線検査装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-169866 Applicant：浜松ホトニクス株式会社
透過X線による断層像検出方法とその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-053488 Applicant：株式会社日立製作所
断層撮影装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-167092 Applicant：株式会社島津製作所

Show all

Return to Previous Page