Pat
J-GLOBAL ID:200903046135108540
発光装置およびその作製方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002038053
Publication number (International publication number):2002334790
Application date: Feb. 15, 2002
Publication date: Nov. 22, 2002
Summary:
【要約】【課題】 従来より劣化しにくい構造の発光素子により上記した課題を解決した寿命の長い発光素子を作製し、高品質な発光装置を作製する方法を提供することを課題とする。【解決手段】 バンクを形成した後、露出した陽極表面をPVA(ポリビニルアルコール)系の多孔質体などを用いて拭い、平坦化およびゴミの除去を行う。また、TFT上の層間絶縁膜と陽極との間に、絶縁膜を形成する。もしくは、TFT上の層間絶縁膜表面をプラズマ処理することにより、表面を改質する。
Claim (excerpt):
絶縁体上のTFTと、前記TFT上の層間絶縁膜と、前記層間絶縁膜上の第1の絶縁膜と、前記第1の絶縁膜上の陽極と、前記TFTと前記陽極とを電気的に接続する配線と、バンクと、前記陽極および前記バンク上に第2の絶縁膜と、前記陽極上に前記第2の絶縁膜を介して有機化合物層と、前記有機化合物層上に陰極とを含む発光装置であって、前記第1の絶縁膜は、プラズマ処理により形成された硬化膜であり、水素、窒素、ハロゲン化炭素、弗化水素または希ガスから選ばれた一種または複数種の気体元素を含むことを特徴とする発光装置。
IPC (9):
H05B 33/22
, G09F 9/30 338
, G09F 9/30 365
, H01L 21/312
, H01L 27/08 331
, H01L 29/786
, H05B 33/10
, H05B 33/12
, H05B 33/14
FI (10):
H05B 33/22 Z
, G09F 9/30 338
, G09F 9/30 365 Z
, H01L 21/312 N
, H01L 27/08 331 E
, H05B 33/10
, H05B 33/12 B
, H05B 33/14 A
, H01L 29/78 619 A
, H01L 29/78 612 A
F-Term (121):
3K007AB06
, 3K007AB12
, 3K007AB13
, 3K007AB14
, 3K007DB03
, 3K007FA01
, 3K007GA00
, 5C094AA37
, 5C094AA38
, 5C094AA42
, 5C094BA03
, 5C094BA27
, 5C094CA19
, 5C094DA09
, 5C094DA15
, 5C094DB01
, 5C094EA04
, 5C094FA02
, 5C094FB01
, 5C094FB16
, 5C094GB10
, 5C094HA06
, 5C094HA08
, 5C094JA20
, 5F048AB07
, 5F048AB10
, 5F048AC04
, 5F048BA16
, 5F048BB09
, 5F048BB12
, 5F048BC16
, 5F058AA02
, 5F058AD04
, 5F058AD09
, 5F058AD10
, 5F058AD11
, 5F058AD12
, 5F058AF04
, 5F058AH02
, 5F058BD04
, 5F058BD10
, 5F058BD15
, 5F058BD19
, 5F110AA26
, 5F110BB02
, 5F110BB04
, 5F110CC02
, 5F110DD01
, 5F110DD02
, 5F110DD03
, 5F110DD13
, 5F110DD14
, 5F110DD15
, 5F110DD17
, 5F110EE01
, 5F110EE04
, 5F110EE06
, 5F110EE11
, 5F110EE14
, 5F110EE23
, 5F110EE28
, 5F110EE44
, 5F110EE45
, 5F110FF02
, 5F110FF04
, 5F110FF09
, 5F110FF28
, 5F110FF30
, 5F110FF36
, 5F110GG01
, 5F110GG02
, 5F110GG13
, 5F110GG25
, 5F110GG32
, 5F110GG43
, 5F110GG45
, 5F110GG47
, 5F110GG51
, 5F110HJ01
, 5F110HJ04
, 5F110HJ12
, 5F110HJ23
, 5F110HL03
, 5F110HL04
, 5F110HL06
, 5F110HL07
, 5F110HL11
, 5F110HL22
, 5F110HL23
, 5F110HM13
, 5F110HM15
, 5F110NN03
, 5F110NN04
, 5F110NN05
, 5F110NN22
, 5F110NN23
, 5F110NN24
, 5F110NN27
, 5F110NN28
, 5F110NN33
, 5F110NN34
, 5F110NN35
, 5F110NN36
, 5F110NN40
, 5F110NN73
, 5F110NN78
, 5F110PP01
, 5F110PP02
, 5F110PP03
, 5F110PP05
, 5F110PP06
, 5F110PP10
, 5F110PP13
, 5F110PP29
, 5F110PP34
, 5F110PP35
, 5F110QQ04
, 5F110QQ11
, 5F110QQ19
, 5F110QQ24
, 5F110QQ28
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (19)
-
特開平4-257826
-
アクティブマトリクス基板の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-148014
Applicant:シャープ株式会社
-
EL表示装置及び電子装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-176521
Applicant:株式会社半導体エネルギー研究所
-
薄膜トランジスタ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-350250
Applicant:富士ゼロックス株式会社
-
エレクトロルミネッセンスデバイス
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2000-505659
Applicant:エコールポリテクニークフェデラルドドゥローザンヌ
-
有機薄膜EL素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-273377
Applicant:松下電器産業株式会社
-
特開平3-259264
-
ポリビニルアルコール系多孔質シートの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-287351
Applicant:鐘紡株式会社
-
特開平4-087187
-
有機薄膜EL素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-151577
Applicant:松下電器産業株式会社
-
発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-006785
Applicant:東レ株式会社
-
薄膜パターニング用基板
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-076979
Applicant:セイコーエプソン株式会社
-
液晶表示装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-132973
Applicant:シャープ株式会社, 株式会社半導体エネルギー研究所
-
有機EL表示装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-159425
Applicant:ティーディーケイ株式会社
-
表示装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-245244
Applicant:三洋電機株式会社
-
スイッチング素子及び有機エレクトロルミネッセンス素子表示装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-056102
Applicant:パイオニア株式会社
-
液晶基板の帯電防止方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-004442
Applicant:日立化成工業株式会社, シャープ株式会社
-
位相シフトフォトマスクブランクス製造方法、位相シフトフォトマスクブランクス、及び位相シフトフォトマスク
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-214792
Applicant:アルバック成膜株式会社, 三菱電機株式会社
-
液晶基板の帯電防止方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-086751
Applicant:日立化成工業株式会社
Show all
Return to Previous Page