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J-GLOBAL ID：200903050952554495

表面増強振動分光分析用プローブおよびその製造方法

Inventor：
小中原 馨

About 小中原 馨


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (2)： 山下 穣平 ,  永井 道雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007128271
Publication number (International publication number)：2008281530
Application date： May. 14, 2007
Publication date： Nov. 20, 2008
Summary：
【課題】試料に損傷を与えない程度の強さのレーザー光に対しても優れた検出感度を有し、かつ長寿命である表面増強振動分光分析用プローブおよびその製造方法を提供する。【解決手段】表面増強振動分光分析用プローブであって、該プローブはカンチレバーに形成されており、該プローブの内部には複数の金属微粒子が分散しており、かつ該プローブの表面に複数の該金属微粒子が露出していることを特徴とする表面増強振動分光分析用プローブ。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
表面増強振動分光分析用プローブであって、 該プローブはカンチレバーに形成されており、該プローブの内部には複数の金属微粒子が分散しており、かつ該プローブの表面に複数の該金属微粒子が露出していることを特徴とする表面増強振動分光分析用プローブ。
IPC (2)：
G01N 21/65 ,  G01N 21/27
FI (2)：
G01N21/65 ,  G01N21/27 C
F-Term (15)：
2G043AA03 ,  2G043CA05 ,  2G043EA03 ,  2G043GA04 ,  2G043GB02 ,  2G043GB05 ,  2G043HA01 ,  2G043JA01 ,  2G043LA03 ,  2G059AA02 ,  2G059AA05 ,  2G059BB20 ,  2G059EE03 ,  2G059GG01 ,  2G059KK04
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (9)
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Cited by examiner (7)
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