プラズマ装置、プラズマ制御方法及びプラズマ処理基体

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner： , ,
Agent (1)：渡部章彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002191829
Publication number (International publication number)：2004039719
Application date： Jul. 01, 2002
Publication date： Feb. 05, 2004
Summary：

【課題】本発明は、プラズマ装置に関し、大面積のプラズマを安定に生成することができる誘導結合方式のプラズマ装置を提供することを目的とする。【解決手段】プラズマ装置は、高周波放電による誘導結合方式のプラズマ装置において、高周波電力を供給される複数本のアンテナ5を真空チャンバー1内に設け、複数本のアンテナ5を各々が1又は複数のアンテナ5からなる複数のグループに分け、グループの各々に対応する高周波電源7を設け、グループの各々においてそのグループに属する1又は複数のアンテナ5の各々にそのグループに対応して設けられた高周波電源7から高周波電力を並列に供給する。【選択図】図3

Claim (excerpt)：

高周波放電による誘導結合方式のプラズマ装置において、高周波電力を供給されるアンテナであって、表面が絶縁体で被覆され真空容器を周回しないで終端し当該高周波の1/ 4波長の長さよりも短い線状又は板状の導体からなるアンテナを、複数本、真空容器内に備えることを特徴とするプラズマ装置。

IPC (4)：

H01L21/205 , C23C16/507 , H01L21/3065 , H05H1/46

FI (4)：

H01L21/205 , C23C16/507 , H05H1/46 L , H01L21/302 101C

F-Term (15)：

4K030FA04 , 4K030KA15 , 4K030KA30 , 4K030KA47 , 5F004BA20 , 5F004BB32 , 5F004BD01 , 5F004BD04 , 5F004CA03 , 5F045AA08 , 5F045DP04 , 5F045EH02 , 5F045EH04 , 5F045EH11 , 5F045EH19

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

プラズマ発生装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-212238 Applicant：科学技術振興事業団
放電電極及びそれを用いた高周波プラズマ発生装置並びに給電方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-193983 Applicant：三菱重工業株式会社
4分の1波長送電線を用いる多極プラズマ・システムのための改善された電力配分
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-150204 Applicant：ザビーオーシーグループインコーポレイテッド

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