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J-GLOBAL ID:200903057658850358
窒化ガリウム系化合物半導体発光素子
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999097154
Publication number (International publication number):2000294837
Application date: Apr. 05, 1999
Publication date: Oct. 20, 2000
Summary:
【要約】【課題】 本発明は、オーミック接触が得られると共に、高い反射率特性が得られるようにしたフリップチップタイプの窒化ガリウム系化合物半導体素子のp電極および該電極を用いた発光素子を提供することを目的とする。【解決手段】 透光性基板上にp型層が表面側となるようにして窒化ガリウム系化合物半導体をエピタキシャル成長したフリップチップタイプ素子のp電極であって、前記p電極をAg及び/またはPtの金属電極が100オングストローム以下の厚みのNi金属領域を介してp型窒化ガリウム系化合物半導体層と接触し、且つ、前記半導体の発光ピーク波長における反射率が30%以上とする。
Claim (excerpt):
透光性基板上にp型層が表面側となるようにして窒化ガリウム系化合物半導体をエピタキシャル成長し、該半導体の前記p型層側にp電極とn電極を配設して透光性基板側から光を取出すフリップチップタイプの窒化ガリウム系化合物半導体素子のp電極であって、前記p電極は、Ag及び/またはPtの金属電極が100オングストローム以下の厚みのNi金属領域を介してp型窒化ガリウム系化合物半導体層と接触し、且つ、前記半導体の発光ピーク波長における反射率が30%以上であることを特徴とする、窒化ガリウム系化合物半導体発光素子のp電極。
IPC (2):
FI (2):
H01L 33/00 N
, H01S 3/18 677
F-Term (23):
5F041AA03
, 5F041AA21
, 5F041CA13
, 5F041CA34
, 5F041CA40
, 5F041CA65
, 5F041CA73
, 5F041CA74
, 5F041CA83
, 5F041CA92
, 5F041CA98
, 5F041DA09
, 5F073AB16
, 5F073CA07
, 5F073CB05
, 5F073CB22
, 5F073CB23
, 5F073DA05
, 5F073DA16
, 5F073DA30
, 5F073DA35
, 5F073EA29
, 5F073FA30
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
-
窒化ガリウム系半導体のp型電極およびその形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-189834
Applicant:日本電気株式会社
-
III族窒化物系化合物半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-056357
Applicant:豊田合成株式会社
-
半導体発光素子及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-341612
Applicant:株式会社東芝
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