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J-GLOBAL ID：200903059793944330
インプリント方式の転写印刷方法、転写印刷版、転写印刷装置、および転写印刷製品
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
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Agent (2)：
小川 勝男
, 田中 恭助
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005124785
Publication number (International publication number)：2006303292
Application date： Apr. 22, 2005
Publication date： Nov. 02, 2006
Summary：
【課題】ナノ、ミクロインプリント方式転写において、転写精度を高め、離反応力の低減を図る。【解決手段】 転写印刷版1に凹凸の溝パターンを形成し、被印刷部材2または被印刷部材上に形成された樹脂膜17に転写印刷版1の凹凸の溝パターンを形成する、インプリント方式の転写印刷方法である。可撓性を有する転写印刷版1を被印刷部材2側に湾曲させて転写印刷を行なう。【選択図】図2
Claim (excerpt)：
転写印刷版に凹凸の溝パターンを形成し、被印刷部材または被印刷部材上に形成された樹脂膜に転写印刷版の凹凸の溝パターンをインプリント方式により転写印刷する転写印刷方法において、可撓性を有する転写印刷版を被印刷部材側に湾曲させて転写印刷を行なうことを特徴とする転写印刷方法。
IPC (1)：
FI (1)：
F-Term (1)：
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (9)
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