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J-GLOBAL ID：200903060398479228

塩基性化合物、感放射線性酸拡散制御剤及びポジ型感放射線性樹脂組成物

Inventor：
米田 英司

About 米田 英司

, 
下川 努

About 下川 努


Applicant, Patent owner：
JSR株式会社

About JSR株式会社


Agent (3)： 小島 清路 ,  早川 大刀夫 ,  萩野 義昇
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005300865
Publication number (International publication number)：2007106717
Application date： Oct. 14, 2005
Publication date： Apr. 26, 2007
Summary：
【課題】遠紫外線、電子線、X線等の各種の放射線を使用する微細加工に有用なポジ型感放射線性樹脂組成物における酸拡散制御剤として好適な塩基性化合物等を提供する。【解決手段】本塩基性化合物は、下記一般式(1)で表されるオニウム塩からなる。〔式中、Z1及びZ2の少なくとも一方はフッ素原子又は炭素数1〜10の直鎖状若しくは分岐状のパーフルオロアルキル基を表し、R1は同一でも異なっていてもよく、アルキル基、シクロアルキル基を表すか、又は、2つのR1が結合している窒素原子を含めて環を形成している。Aは2価の有機基若しくは単結合を表し、M+はスルホニウムカチオン又はヨードニウムカチオン等を示す。〕【選択図】なし
Claim (excerpt)：
下記一般式(1)で表されるオニウム塩からなることを特徴とする塩基性化合物。
IPC (6)：
C07C 309/14 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C07C 381/12 ,  C07C 19/07
FI (6)：
C07C309/14 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C07C381/12 ,  C07C19/07
F-Term (17)：
2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025FA17 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB78 ,  4H006EA02
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (6)
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