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J-GLOBAL ID：200903081839886816

感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法

Inventor：
児玉 邦彦

About 児玉 邦彦

, 
和田 健二

About 和田 健二

, 
岩戸 薫

About 岩戸 薫


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (5)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004349976
Publication number (International publication number)：2005266766
Application date： Dec. 02, 2004
Publication date： Sep. 29, 2005
Summary：
【課題】 パターン倒れが少なく、ラインエッジラフネスを小さくでき、パターンプロファイルが優れた感光性組成物、化合物及びパターン形成方法を提供する。【解決手段】 活性光線又は放射線の照射により、下記一般式(I)または(I ́)で表される酸を発生する化合物を含有する。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
(A)活性光線または放射線の照射により、下記一般式(I)または(I’)で表される酸を発生する化合物を含有することを特徴とする感光性組成物。
IPC (10)：
G03F7/004 ,  C07C381/12 ,  C07D211/60 ,  C07D225/02 ,  C07D295/08 ,  C08K5/42 ,  C08L101/12 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027
FI (10)：
G03F7/004 503A ,  C07C381/12 ,  C07D211/60 ,  C07D225/02 ,  C07D295/08 Z ,  C08K5/42 ,  C08L101/12 ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
F-Term (49)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025AD05 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB41 ,  2H025CB42 ,  2H025CC17 ,  2H025FA17 ,  4C034EA10 ,  4C054AA02 ,  4C054CC08 ,  4C054DD01 ,  4C054EE01 ,  4C054FF01 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB92 ,  4J002BC111 ,  4J002BC121 ,  4J002BD121 ,  4J002BD171 ,  4J002BE041 ,  4J002BG051 ,  4J002BG071 ,  4J002BG091 ,  4J002BH021 ,  4J002BK001 ,  4J002CP031 ,  4J002EC027 ,  4J002EJ027 ,  4J002EJ047 ,  4J002EL027 ,  4J002EU107 ,  4J002EU187 ,  4J002EV236 ,  4J002EV246 ,  4J002EV296 ,  4J002FD147 ,  4J002FD206 ,  4J002GP03
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (6)
  • レジスト材料及びパターン形成方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-239633   Applicant：信越化学工業株式会社
  • 欧州特許出願公開第1270553号明細書
  • 国際公開第02/042845号パンフレット
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Cited by examiner (8)
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