Pat
J-GLOBAL ID:200903061382241406
グレートーンマスク及びその製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
大塚 武史
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004065115
Publication number (International publication number):2005257712
Application date: Mar. 09, 2004
Publication date: Sep. 22, 2005
Summary:
【課題】エッチングストッパー膜を設けなくても、遮光膜及び半透光膜をエッチング特性が同じか或いは近似した膜材料で構成することができ、半透光部のパターンずれを防止できるハーフトーン膜タイプのグレートーンマスク及びその製造方法を提供する。【解決手段】遮光部、透光部及び半透光部を有し、遮光部が透明基板21上に順に設けられた遮光膜22b及び半透光膜24aより形成され、半透光部は半透光部に対応する領域を露出させた透明基板21上に半透光膜24aを成膜してなるグレートーンマスク30である。透明基板上に遮光膜が形成されたマスクブランクスを用い、遮光部及び透光部に対応する領域に形成したレジストパターンをマスクとして、露出した遮光膜をエッチングすることにより半透光部に対応する領域の透明基板を露出させ、基板上に半透光膜を成膜することにより半透光部を形成し、遮光部及び半透光部に対応する領域に形成したレジストパターンをマスクとして、露出した半透光膜及び遮光膜をエッチングすることにより透光部及び遮光部を形成する。【選択図】図2
Claim (excerpt):
遮光部、透光部及び半透光部を有するグレートーンマスクであって、該グレートーンマスクを用いて露光する被処理体における感光性材料層への露光量を、前記遮光部と透光部と半透光部とで異ならしめることにより、異なる膜厚の感光性材料層からなる被処理体の処理を行うためのマスク層を被処理体上に得るために用いられるグレートーンマスクにおいて、
前記遮光部が、透明基板上に設けられた遮光膜及びその上に成膜された半透光膜より形成され、前記半透光部は、半透光部に対応する領域を露出させた透明基板上に成膜された半透光膜より形成されていることを特徴とするグレートーンマスク。
IPC (2):
FI (2):
G03F1/08 A
, G03F7/20 501
F-Term (6):
2H095BB02
, 2H095BB14
, 2H095BC05
, 2H095BC24
, 2H097BB01
, 2H097LA12
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (16)
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グレートーンマスク及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-386093
Applicant:ホーヤ株式会社
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特開昭53-136969
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特開昭58-077231
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特開昭59-041839
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特開昭60-128448
-
特開平2-207252
-
露光マスク及びパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-176862
Applicant:富士通株式会社
-
半導体装置の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-208287
Applicant:三菱電機株式会社
-
半導体装置のウエット・エッチング方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-269913
Applicant:日本アイ・ビー・エム株式会社
-
ハーフトーン型位相シフトマスク及びハーフトーン型位相シフトマスクブランク
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-274616
Applicant:ホーヤ株式会社
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位相シフトマスク及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-333204
Applicant:沖電気工業株式会社
-
ハーフトーン位相シフトマスクの構造及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-339123
Applicant:エルジイ・セミコン・カンパニイ・リミテッド
-
ハーフトーン型位相シフトマスク及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-127395
Applicant:凸版印刷株式会社
-
液晶表示装置用薄膜トランジスタ基板及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-000160
Applicant:三星電子株式会社
-
液晶用マトリクス基板の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-004901
Applicant:シャープ株式会社
-
露光用マスク及びその製造方法、並びに液晶装置の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-424699
Applicant:セイコーエプソン株式会社
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Cited by examiner (19)
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特開平2-207252
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特開昭60-128448
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Application number:特願平4-176862
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特開昭59-041839
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特開昭58-077231
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