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J-GLOBAL ID：200903098995426620
露光用マスク及びその製造方法、並びに液晶装置の製造方法
Inventor：
,
,
,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：
上柳 雅誉
, 藤綱 英吉
, 須澤 修
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003424699
Publication number (International publication number)：2005181827
Application date： Dec. 22, 2003
Publication date： Jul. 07, 2005
Summary：
【課題】 高精度なアライメントを要することなく、液晶表示装置などの反射膜の散乱構造の形成に適した多階調の大判露光用マスクを製造する。【解決手段】 露光用マスクは、例えば半透過反射型又は反射型の液晶表示装置の反射膜に散乱構造を形成するのに好適であり、遮光部と半透過部と透光部を備えることにより、基板上に形成された樹脂材料選択的に除去して散乱構造を形成する。当該露光用マスクは、まずガラスなどの透光性の基板上に遮光層を形成し、その遮光層を選択的に除去して遮光部を形成する。最終的に遮光部を加工対象領域内のみに形成する必要があっても、最初の工程では遮光部を加工対象領域外に残しておき、半透過層を除去する際に同時に加工対象領域外の遮光層を除去する。次に、遮光部が形成された基材上に半透過性材料により半透過層を形成し、残っている遮光部及び半透過層を選択的に除去することにより、半透過部及び透光部を形成する。よって、描画機のアライメント精度が確保できない場合でも、各要素を正確に配置した露光用マスクを製造することが可能となる。【選択図】 図9
Claim (excerpt)：
基材上に遮光層を形成する第1工程と、
前記遮光層を選択的に除去して遮光部を形成する第2工程と、
前記遮光部が形成されている前記基材上に半透過層を形成する第3工程と、
前記半透過層を選択的に除去して半透過部及び透光部を形成する第4工程と、によりマスクパターンを形成することを特徴とする露光用マスクの製造方法。
IPC (3)：
G03F1/08
, G02F1/1335
, G03F7/20
G03F1/08 A
, G02F1/1335 520
, G03F7/20 501
2H091FA16
, 2H091FB08
, 2H091FC10
, 2H091FC29
, 2H091LA12
, 2H095BA12
, 2H095BC04
, 2H095BC24
, 2H097LA12
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