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J-GLOBAL ID：200903065310488089

散気処理装置

Inventor：
小嶋 久夫

About 小嶋 久夫


Applicant, Patent owner：
株式会社アネモス

About 株式会社アネモス


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003385909
Publication number (International publication number)：2005111467
Application date： Oct. 10, 2003
Publication date： Apr. 28, 2005
Summary：
【課題】 気液の混合攪拌効率の向上による高性能化、省エネルギー化、省スペース化、メンテナンスフリーを達成し、大型化の容易な高効率の散気処理装置を提供する。【解決手段】 散気処理装置15は、長手方向を実質的に垂直にして配置された静止型混合器9を内設した筒状の通路管8と通路管8の下端側に気体を通路管8内に気送ライン11を介して噴出供給する気体噴出部12を配置し、気体噴出部12に静止型混合器13を内設し、気体噴出部12から気体を供給し、通路管8の下方側から液体を通路管8内に導入し、気体および液体は通路管8内を並流で上昇し、両者は通路管8の内部で気液接触し、通路管8の上端側から液体中に排出される。【選択図】 図2
Claim (excerpt)：
長手方向を実質的に垂直にして配置された静止型混合器を内設した筒状の通路管と前記通路管の下端側から気体を前記通路管内に気送ラインを介して噴出供給する気体噴出部を配置し、前記気体噴出部にスプレーノズルを内設し、前記気体噴出部から気体を供給し、前記通路管の下方側から液体を前記通路管内に導入し、前記気体および液体は前記通路管内を並流で上昇し、両者は前記通路管の内部で気液接触混合し、前記通路管の上端側から液体中に排出されることを特徴とする散気処置装置。
IPC (7)：
C02F3/20 ,  B01D19/00 ,  B01F1/00 ,  B01F3/04 ,  B01F5/00 ,  C02F1/20 ,  C02F7/00
FI (7)：
C02F3/20 Z ,  B01D19/00 F ,  B01F1/00 A ,  B01F3/04 A ,  B01F5/00 F ,  C02F1/20 A ,  C02F7/00
F-Term (23)：
4D011AA15 ,  4D011AB06 ,  4D011AB07 ,  4D011AC04 ,  4D029AA01 ,  4D029AA09 ,  4D029AB05 ,  4D029AB06 ,  4D029AB07 ,  4D029BB10 ,  4D029BB11 ,  4D037AA01 ,  4D037AA05 ,  4D037AA11 ,  4D037AB14 ,  4D037BA23 ,  4D037BB04 ,  4D037BB05 ,  4G035AA01 ,  4G035AB05 ,  4G035AB27 ,  4G035AC05 ,  4G035AC10
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (7)
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Cited by examiner (14)
  • 物質移動装置及びその製造方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-360987   Applicant：小嶋久夫
  • 特開昭52-105659
  • 浄化堤
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-053819   Applicant：清水建設株式会社
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