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J-GLOBAL ID：200903065562172602

回転ターゲット式電子線補助照射レーザアブレーション成膜装置及び回転ターゲット式電子線照射成膜装置

Inventor：
市川 典男

About 市川 典男

, 
北原 正

About 北原 正


Applicant, Patent owner：
浜松ホトニクス株式会社

About 浜松ホトニクス株式会社


Agent (4)： 北澤 一浩 ,  小泉 伸 ,  市川 朗子 ,  立石 博臣
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006351437
Publication number (International publication number)：2007197827
Application date： Dec. 27, 2006
Publication date： Aug. 09, 2007
Summary：
【課題】 良好な膜質の薄膜を形成することができる成膜装置の提供。【解決手段】 ターゲット11を保持するターゲットホルダ10と、ターゲットホルダ10を回転可能な回転機構80と、成膜用基板21を保持する基板ホルダ20と、電子線を発生する電子線発生装置30と、電子線収束装置40と、レーザ光照射装置50とを備えた回転ターゲット式成膜装置である。電子線収束装置40は、回転機構80により回転するターゲット11に対して、電子レンズを形成することにより電子線発生装置30から発生された電子線を収束させ、もってターゲット11の少なくとも一部を液体化する。レーザ光照射装置50は、液体化されたターゲット11の少なくとも一部にレーザ光を照射してアブレーションを行う。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
固体材料からなるターゲットを保持するターゲットホルダと、 該ターゲットホルダを回転可能な回転機構と、 該ターゲットホルダに対して所定の位置に設けられ、成膜用基板を保持する基板ホルダと、 電子線を発生する電子線発生装置と、 該回転機構により回転する該ターゲットに対して、電子レンズを形成することにより該電子線発生装置から発生された電子線を収束させ、もって該ターゲットの少なくとも一部を液体化する電子線収束装置と、 液体化された該ターゲットの少なくとも一部にレーザ光を照射するレーザ光照射装置と、を備えることを特徴とする回転ターゲット式電子線補助照射レーザアブレーション成膜装置。
IPC (1)：
C23C 14/28
FI (1)：
C23C14/28
F-Term (9)：
4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BA03 ,  4K029CA01 ,  4K029DB03 ,  4K029DB07 ,  4K029DB20 ,  4K029DB21 ,  4K029DB23
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2)
  • 特開平4-311561号公報
  • 窒化物薄膜作製方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-041984   Applicant：浜松ホトニクス株式会社
Cited by examiner (10)
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