Pat
J-GLOBAL ID：200903067140222480

ポジ型感光性樹脂組成物及びレリーフパターンの製造法

Inventor：
佐々木 守

About 佐々木 守

, 
布村 昌隆

About 布村 昌隆

, 
大江 匡之

About 大江 匡之

, 
内村 俊一郎

About 内村 俊一郎


Applicant, Patent owner：
日立化成工業株式会社

About 日立化成工業株式会社


Agent (1)： 若林 邦彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997339816
Publication number (International publication number)：1999174678
Application date： Dec. 10, 1997
Publication date： Jul. 02, 1999
Summary：
【要約】 (修正有)【課題】 活性光線に対する感度が高く、現像液としてアルカリ水溶液を用いて良好なパターンの形成ができるポジ型感光性樹脂組成物及び活性光線で露光し、アルカリ現像液を用いて現像して、良好なレリーフパターンを形成する。【解決手段】 (式中R1は4価の有機基、R2及びR3は炭化水素基、R4はフェノール性水酸基又はカルボキシル基を有する2価の有機基)で示される反復単位を含むポリアミド酸エステル及び(B)光により酸を発生する化合物を含むポジ型感光性樹脂組成物であって、この樹脂組成物から形成される膜のアルカリ水溶液に対する溶解速度が30nm/秒以下であり、かつ同一塗布乾燥条件で活性光線を700mJ/cm2照射した時の溶解速度が80nm/秒以上であるポジ型感光性樹脂組成物並びにこの樹脂組成物を基板上に塗布し、乾燥後、活性光線照射を行い、アルカリ水溶液で現像し、次いで加熱処理するレリーフパターンの製造法。
Claim (excerpt)：
(A)一般式(I)【化1】(但し、式中R1は4価の有機基、R2及びR3は炭化水素基、R4はフェノール性水酸基又はカルボキシル基を少なくとも1個有する2価の有機基)で示される反復単位を含むポリアミド酸エステル及び(B)光により酸を発生する化合物を含むポジ型感光性樹脂組成物であって、該ポジ型感光性樹脂組成物を塗布乾燥して形成される膜のアルカリ水溶液に対する溶解速度が30nm/秒以下であり、かつ同一塗布乾燥条件で塗布乾燥して形成される膜に活性光線を700mJ/cm2照射した膜の前記アルカリ水溶液に対する溶解速度が80nm/秒以上であるポジ型感光性樹脂組成物。
IPC (5)：
G03F 7/039 501 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/027 514 ,  G03F 7/028 ,  H01L 21/027
FI (5)：
G03F 7/039 501 ,  G03F 1/08 A ,  G03F 7/027 514 ,  G03F 7/028 ,  H01L 21/30 502 R
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (34)
  • 特開平3-158856
  • 特表平7-500932
  • 特開平3-158856
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM