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J-GLOBAL ID：200903016398175068

ポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法

Inventor：
和田 健二

About 和田 健二


Applicant, Patent owner：
富士フイルムホールディングス株式会社

About 富士フイルムホールディングス株式会社


Agent (4)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005179335
Publication number (International publication number)：2006350212
Application date： Jun. 20, 2005
Publication date： Dec. 28, 2006
Summary：
【課題】IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用されるポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法に於いて、パターン形状、PEB温度依存性、露光ラチチュードが改善されたポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により特定構造の有機酸を発生する化合物及び(B)酸の作用により分解しアルカリ可溶性基を生じる酸分解性基として、ビシクロ[2.2.1]ヘプタン骨格にエステル結合を有する基が結合した基を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解度が増大する樹脂を含有するポジ型感光性組成物及び当該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
(A)活性光線又は放射線の照射により下記一般式(I)で表される有機酸を発生する化合物及び (B)酸の作用により分解しアルカリ可溶性基を生じる酸分解性基として、ビシクロ[2.2.1]ヘプタン骨格にエステル結合を有する基が結合した基を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解度が増大する樹脂 を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。
IPC (3)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027
FI (3)：
G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
F-Term (13)：
2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025FA17
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (6)
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Cited by examiner (10)
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