感放射線性樹脂組成物

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：福沢俊明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997245978
Publication number (International publication number)：1999072921
Application date： Aug. 28, 1997
Publication date： Mar. 16, 1999
Summary：

【要約】【課題】解像度、PED安定性が優れるとともに、特に「ナノエッジラフネス」あるいは「膜面荒れ」を生じることがなく、パターン形状にも優れ、高精度の微細なレジストパターンを安定して形成することができる化学増幅型ポジ型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】感放射線性樹脂組成物は、(A)p-ヒドロキシスチレンに代表される繰返し単位と(メタ)アクリル酸t-ブチルに代表される繰返し単位とを有する共重合体、および(B)放射線の照射により3つ以上のふっ素原子を有するスルホン酸を発生する化合物と、放射線の照射によりふっ素原子を全くもたないスルホン酸を発生する化合物との組み合せからなる感放射線性酸発生剤を含有する。

Claim (excerpt)：

(A)下記式(1)で表される繰返し単位(1)と下記式(2)で表される繰返し単位(2)とを有する共重合体、【式1】〔式(1)において、R1 は水素原子またはメチル基を示す。〕、【式2】〔式(2)において、R2 は水素原子またはメチル基を示し、R3 は炭素数4〜10の3級アルキル基を示す。〕、および(B)2種以上の化合物からなる感放射線性酸発生剤を含有し、前記(B)成分を構成する化合物の少なくとも1種が放射線の照射により「3つ以上のふっ素原子を有するスルホン酸」を発生する化合物からなり、かつ前記(B)成分を構成する化合物の少なくとも1種が放射線の照射により「ふっ素原子を全くもたないスルホン酸」を発生する化合物からなることを特徴とする感放射線性樹脂組成物。

IPC (4)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 503 , G03F 7/033 , H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 503 A , G03F 7/033 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

新規ヨ-ドニウム塩及び化学増幅ポジ型レジスト材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-309848 Applicant：信越化学工業株式会社, 日本電信電話株式会社
新規スルホニウム塩及び化学増幅ポジ型レジスト材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-317626 Applicant：信越化学工業株式会社
遠紫外線用レジスト組成物及びこれを用いた微細パターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-083199 Applicant：和光純薬工業株式会社, 松下電器産業株式会社

Show all

Return to Previous Page