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J-GLOBAL ID:200903074908152033
窒化ガリウム系化合物半導体発光素子及びその製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (7):
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 渡邊 隆
, 青山 正和
, 鈴木 三義
, 西 和哉
, 村山 靖彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005360290
Publication number (International publication number):2007165613
Application date: Dec. 14, 2005
Publication date: Jun. 28, 2007
Summary:
【課題】光取り出し効率に優れた窒化ガリウム系化合物半導体発光素子およびその製造方法を提供する。【解決手段】基板11上に窒化ガリウム系化合物半導体からなるn型半導体層13、発光層14およびp型半導体層15がこの順序で積層され、該p型半導体層15上に透光性正極16が積層されるとともに該透光性正極16上に正極ボンディングパッド17が設けられ、n型半導体層13上に負極ボンディングパッド18が設けられた窒化ガリウム系化合物半導体発光素子において、透光性正極16の表面16aの少なくとも一部に無秩序な凹凸面が形成されてなる。【選択図】図1
Claim (excerpt):
基板上に窒化ガリウム系化合物半導体からなるn型半導体層、発光層およびp型半導体層がこの順序で積層され、該p型半導体層上に透光性正極が積層されるとともに該透光性正極上に正極ボンディングパッドが設けられ、前記n型半導体層上に負極ボンディングパッドが設けられた窒化ガリウム系化合物半導体発光素子であって、
前記透光性正極表面の少なくとも一部に無秩序な凹凸面が形成されてなることを特徴とする窒化ガリウム系化合物半導体発光素子。
IPC (1):
FI (2):
H01L33/00 E
, H01L33/00 C
F-Term (11):
5F041AA03
, 5F041CA04
, 5F041CA05
, 5F041CA34
, 5F041CA40
, 5F041CA46
, 5F041CA74
, 5F041CA77
, 5F041CA88
, 5F041CA92
, 5F041CA98
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
Cited by examiner (6)
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マスク及びその形成方法及びこれを用いたエッチング方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-223675
Applicant:ソニー株式会社
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量子箱の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-099212
Applicant:松下電器産業株式会社
-
発光ダイオード
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-025536
Applicant:エルジーエレクトロニクスインコーポレーテッド
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