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J-GLOBAL ID：200903025873939557

化学増幅ポジ型レジスト材料

Inventor： 畠山 潤 ,  竹村 勝也 ,  名倉 茂広
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社
Agent (1)： 小島 隆司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997185812
Publication number (International publication number)：1999015163
Application date： Jun. 26, 1997
Publication date： Jan. 22, 1999
Summary：

【要約】【解決手段】 常圧760mmHgでの沸点が180°C以上のアルコール化合物を含む化学増幅ポジ型レジスト材料。【効果】 本発明のレジスト材料は、PEBの雰囲気が空気気流中であっても、乾燥空気或いは乾燥窒素気流中であっても、良好にパターン形成することができる。

Claim (excerpt)：

常圧760mmHgでの沸点が180°C以上のアルコール化合物を含む化学増幅ポジ型レジスト材料。

IPC (5)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/023 511 ,  H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/023 511 ,  H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (12)

• 特開平3-192361
  
• パタン形成材料及びそれを用いたパタン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-280883   Applicant：株式会社日立製作所, 日立化成工業株式会社
• ポジ型フォトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-323191   Applicant：信越化学工業株式会社
• レジスト塗布組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-059928   Applicant：日本合成ゴム株式会社
• ポジ型感光性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-246758   Applicant：三菱化学株式会社
• レジスト材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-115307   Applicant：信越化学工業株式会社
• レジスト材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-115308   Applicant：信越化学工業株式会社
• 新規なレジスト材料及びパタ-ン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-173830   Applicant：和光純薬工業株式会社
• レジスト組成物及びレジストパターンの形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-303235   Applicant：日本ゼオン株式会社, 富士通株式会社
• 架橋されたポリマー
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-098487   Applicant：オー・シー・ジー・マイクロエレクトロニツク・マテリアルズ・インコーポレイテツド
• 橋かけポリマー
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-330237   Applicant：オー・シー・ジー・マイクロエレクトロニツク・マテリアルズ・インコーポレイテツド
• パターン形成材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-351957   Applicant：信越化学工業株式会社