Pat
J-GLOBAL ID:200903083283481938
III族窒化物半導体発光素子
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
矢口 平
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999227036
Publication number (International publication number):2001053337
Application date: Aug. 11, 1999
Publication date: Feb. 23, 2001
Summary:
【要約】【課題】pn接合型ヘテロ接合構造の発光部を備えたIII族窒化物半導体発光素子を構成するのに際し、発光の透過性に優れ、且つ経時的な特性変化が少ないp形障壁層の接合構成を提供する。【解決手段】p形酸化物障壁層に透明な酸化物結晶層を、p形障壁層の保護層として接合させ、インジウム含有III族窒化物半導体発光層とp形障壁層との中間には、双方の禁止帯幅の差異を緩和する透明酸化物層を配置する構成とする。
Claim (excerpt):
発光部として、n形のIII族窒化物半導体からなる障壁層と、インジウム含有III族窒化物半導体からなる発光層と、酸化物からなるp形障壁層とを含み、p形障壁層の少なくとも片側に酸化物半導体層が接合されていることを特徴とするIII族窒化物半導体発光素子。
IPC (2):
FI (2):
H01L 33/00 C
, H01S 5/323
F-Term (15):
5F041AA43
, 5F041CA03
, 5F041CA34
, 5F041CA40
, 5F041CA46
, 5F041CA82
, 5F041CA88
, 5F041CA92
, 5F073AA61
, 5F073CA07
, 5F073CB04
, 5F073CB07
, 5F073CB22
, 5F073DA05
, 5F073DA35
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (7)
-
半導体発光素子およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-098687
Applicant:株式会社東芝
-
短波長発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-208486
Applicant:昭和電工株式会社
-
半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-305668
Applicant:株式会社ジャパンエナジー
-
窒化物半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-330858
Applicant:日亜化学工業株式会社
-
半導体発光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-229045
Applicant:株式会社東芝
-
低抵抗p型窒化ガリウム系化合物半導体の気相成長方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-007298
Applicant:日本電気株式会社
-
半導体装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-036363
Applicant:株式会社東芝
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Cited by examiner (7)
-
半導体発光素子およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-098687
Applicant:株式会社東芝
-
短波長発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-208486
Applicant:昭和電工株式会社
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半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-305668
Applicant:株式会社ジャパンエナジー
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窒化物半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-330858
Applicant:日亜化学工業株式会社
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半導体発光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-229045
Applicant:株式会社東芝
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低抵抗p型窒化ガリウム系化合物半導体の気相成長方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-007298
Applicant:日本電気株式会社
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半導体装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-036363
Applicant:株式会社東芝
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