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J-GLOBAL ID：200903084641710711

ポジ型レジスト組成物

Inventor：
藤森 亨

About 藤森 亨

, 
河辺 保雅

About 河辺 保雅


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (1)： 小栗 昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002000563
Publication number (International publication number)：2003167333
Application date： Jan. 07, 2002
Publication date： Jun. 13, 2003
Summary：
【要約】【課題】 ラインエッジラフネスに優れており、パターン倒れが防止され、特に微細なパターンでのフォーカス、露光を変動させてもパターン倒れのない優れたポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 (A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)アルカリに対して不溶性あるいは難溶性であり、酸の作用でアルカリ可溶性となる樹脂、(C)塩基性化合物、および(D)少なくとも3つ以上の水酸基又は置換された水酸基を有し、かつ少なくとも一つの環状構造を有する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
Claim (excerpt)：
(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)アルカリに対して不溶性あるいは難溶性であり、酸の作用でアルカリ可溶性となる樹脂、(C)塩基性化合物、および(D)少なくとも3つ以上の水酸基又は置換された水酸基を有し、かつ少なくとも一つの環状構造を有する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (6)：
G03F 7/004 501 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027 ,  C08F212/14 ,  C08F220/10 ,  C08F232/00
FI (6)：
G03F 7/004 501 ,  G03F 7/039 601 ,  C08F212/14 ,  C08F220/10 ,  C08F232/00 ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (41)：
2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J100AB07P ,  4J100AB07Q ,  4J100AB07R ,  4J100AL08P ,  4J100AR09Q ,  4J100BA02P ,  4J100BA02Q ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA05Q ,  4J100BA06Q ,  4J100BA11Q ,  4J100BA12Q ,  4J100BA15P ,  4J100BA15Q ,  4J100BA15R ,  4J100BA16Q ,  4J100BA34Q ,  4J100BA58Q ,  4J100BC02P ,  4J100BC04P ,  4J100BC04Q ,  4J100BC07P ,  4J100BC09P ,  4J100BC12P ,  4J100BC43Q ,  4J100BC53Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (8)
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