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J-GLOBAL ID:200903086993848066
半導体発光素子
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
岡田 賢治
, 今下 勝博
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003430220
Publication number (International publication number):2004266258
Application date: Dec. 25, 2003
Publication date: Sep. 24, 2004
Summary:
【課題】 従来用いられているITO電極膜は発光した光の透過率は高いものの、ITO電極膜とp型GaN系半導体層との間でショットキー型コンタクトとなり、電流が均一に流れなくなる。本発明は、GaN系半導体発光素子の出射側においてITO電極膜に替わる透明電極を形成し、GaN系半導体発光素子の発光効率、出射効率を向上させることを目的とする。【解決手段】 上記目的を達成するために、本発明は、n型GaN系半導体層とp型GaN系半導体層とで挟まれたGaN系半導体からなる発光層を含む半導体発光素子であって、Ga又はBがドープされたMgzZn1-zO(0≦z<1)電極膜を備える半導体発光素子である。【選択図】図1
Claim (excerpt):
n型GaN系半導体層とp型GaN系半導体層とで挟まれたGaN系半導体からなる発光層を含む半導体発光素子であって、GaがドープされたMgzZn1-zO(0≦z<1)電極膜を備える半導体発光素子。
IPC (1):
FI (2):
H01L33/00 E
, H01L33/00 C
F-Term (8):
5F041AA21
, 5F041CA05
, 5F041CA40
, 5F041CA46
, 5F041CA65
, 5F041CA74
, 5F041CA82
, 5F041CA88
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
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窒化ガリウム系半導体発光素子及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-014390
Applicant:星和電機株式会社
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窒化ガリウム系化合物半導体装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-358412
Applicant:酒井士郎, ナイトライド・セミコンダクター株式会社
Cited by examiner (7)
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光半導体素子及び光半導体装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-299755
Applicant:スタンレー電気株式会社
-
窒化ガリウム系半導体発光素子及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-014390
Applicant:星和電機株式会社
-
窒化ガリウム系化合物半導体装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-358412
Applicant:酒井士郎, ナイトライド・セミコンダクター株式会社
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半導体デバイス
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-264885
Applicant:科学技術振興事業団
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窓層を備えたAlGaInP発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-166352
Applicant:昭和電工株式会社
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半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-017486
Applicant:独立行政法人産業技術総合研究所
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発光素子及びその製造方法、可視光発光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-366118
Applicant:信越半導体株式会社
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