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J-GLOBAL ID：200903088017894234

ラクトン添加剤を含むレジスト組成物

Inventor：
イトウ・ヒロシ

About イトウ・ヒロシ

, 
プシュカラ・ラオ・ヴァラナシ

About プシュカラ・ラオ・ヴァラナシ


Applicant, Patent owner：
インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション

About インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション


Agent (1)： 坂口 博 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001238985
Publication number (International publication number)：2002062640
Application date： Aug. 07, 2001
Publication date： Feb. 28, 2002
Summary：
【要約】【課題】 193nmの放射でイメージングし、これを現像して、高解像度および耐エッチング性に優れたレジスト構造を形成するレジスト組成物を提供する。【解決手段】 本発明の酸触媒型ポジ型レジスト組成物は、(a)環状オレフィン、アクリラートおよびメタクリラートから成るグループから選択された単量体を含むイメージング・ポリマー、(b)放射感受性酸発生剤、ならびに(c)ラクトン添加剤、の組合せを含む。ラクトン添加剤は少なくとも10個の炭素原子を含むことが好ましく、少なくとも1つの飽和脂環部分を含むことがより好ましい。イメージング・ポリマーは環状オレフィン・ポリマーであることが好ましい。
Claim (excerpt)：
(a)環状オレフィン、アクリラートおよびメタクリラートから成るグループから選択された単量体を含んで成るイメージング・ポリマーと、(b)放射感受性酸発生剤と、(c)ラクトン添加剤とを含むレジスト組成物。
IPC (5)：
G03F 7/004 501 ,  C08F232/08 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027
FI (5)：
G03F 7/004 501 ,  C08F232/08 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (31)：
2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB42 ,  2H025CB43 ,  2H025CC20 ,  2H025DA18 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  2H025FA29 ,  2H025FA39 ,  4J100AR09P ,  4J100AR09Q ,  4J100AR11P ,  4J100AR11Q ,  4J100BA16Q ,  4J100BA20P ,  4J100BD10P ,  4J100BD10Q ,  4J100CA04 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (10)
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