Pat
J-GLOBAL ID:200903088028676484

スピン偏極STM装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 須山 佐一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994126317
Publication number (International publication number):1995333233
Application date: Jun. 08, 1994
Publication date: Dec. 22, 1995
Summary:
【要約】【目的】 磁化状態を外部パラメータで変化させることができ、かつ容易に作製することが可能な探針を用いることによって、実用的に各種試料の磁化状態を正確に検出することを可能にしたスピン偏極STM装置を提供する。【構成】 スペーサ層3を介して積層された複数の磁性体層2を有し、光照射により磁性体層2間の磁気的相互作用が変化する積層膜4からなる探針1を用いて、探針1と試料8間に働くトンネル電流を検出し、光照射前の初期状態におけるトンネル電流I0 と、光照射時のトンネル電流I↑↑またはI↑↓との比較から、試料8の磁化状態を判定する。
Claim (excerpt):
スペーサ層を介して積層された複数の磁性体層を有し、光照射により前記磁性体層間の磁気的相互作用が変化する積層膜からなる探針と、前記探針と試料間に働くトンネル電流または磁気力を検出する手段とを具備することを特徴とするスピン偏極STM装置。
IPC (5):
G01N 37/00 ,  G01N 24/00 ,  G01R 33/02 ,  G01R 33/10 ,  G01R 33/12
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
  • 特開昭62-139240
  • 走査表面磁気顕微鏡
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-107329   Applicant:株式会社日立製作所
  • 特開平2-176482

Return to Previous Page