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J-GLOBAL ID:200903090230498746
ポジ型感光性組成物
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
萩野 平 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997145437
Publication number (International publication number):1998333326
Application date: Jun. 03, 1997
Publication date: Dec. 18, 1998
Summary:
【要約】【課題】 良好なプロファイルと高感度、高解像力を有し、露光後経時での性能変化の小さいポジ型感光性組成物を提供する。【解決手段】(a)活性光線または放射線の照射により、スルホン酸を発生する特定の構造の化合物、及び(b)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。
Claim (excerpt):
(a)活性光線または放射線の照射により、スルホン酸を発生する下記一般式(I)で表される化合物、及び(b)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。【化1】式(I)中、R1 〜R15は同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アシルアミノ基、t-ブトキシカルボニルオキシ基、アリールチオ基、置換していてもよいアリール基、スルホニルアミノ基、置換していてもよいアリールオキシ基、直鎖、分岐あるいは環状アルキル基、又は直鎖、分岐あるいは環状アルコキシ基を示す。R1 〜R15のうち少なくとも1つで、他のスルホニウム塩残基に結合してもよい。X- は、【化2】で表わされるスルホニウムアニオンから選ばれる化合物を示す。nは0〜10の整数を表す。R16〜R20、R21〜R27及びR28〜R36は同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、直鎖、分岐あるいは環状アルキル基、パーフロロアルキル基、直鎖、分岐あるいは環状アルコキシ基、アシル基、アシロキシ基、ホルミル基、ニトロ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、アリール基、アルコキシカルボニル基を示す。R16〜R20、R21〜R27及びR28〜R36のうち少なくとも1つで、他のスルホニウム塩残基に結合してもよい。但し、R16〜R20、R21〜R27及びR28〜R36のうちそれぞれ少なくとも2つはアルコキシ基であり、R16〜R20、R21〜R27及びR28〜R36の各置換基の炭素数の和が4以上である。
IPC (6):
G03F 7/004 503
, C07C381/12
, C08K 5/42
, C08L 25/18
, H01L 21/027
, C08F 8/00
FI (6):
G03F 7/004 503 A
, C07C381/12
, C08K 5/42
, C08L 25/18
, C08F 8/00
, H01L 21/30 502 R
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
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ポジ型感光性アニオン型電着塗料樹脂組成物、これを用いた電着塗装浴、電着塗装法及びプリント回路板の製造法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-314526
Applicant:日立化成工業株式会社
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ポジ型感光性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-055224
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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化学増幅ポジ型レジスト材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-195616
Applicant:信越化学工業株式会社
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化学増幅された放射線感受性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-210310
Applicant:オー・シー・ジー・マイクロエレクトロニツク・マテリアルズ・インコーポレイテツド
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新規オニウム塩およびそれを含有する感放射線性樹脂 組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-358730
Applicant:日本合成ゴム株式会社
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ポジ型感光性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-299093
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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新規なレジスト材料及びパタ-ン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-173830
Applicant:和光純薬工業株式会社
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ポジ型感光性樹脂組成物及びこれを用いた積層体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-314527
Applicant:日立化成工業株式会社
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感光性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-159093
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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