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J-GLOBAL ID：200903090611442976

ネガ型レジスト組成物

Inventor： 山崎 晃義 ,  石川 清 ,  大森 克実 ,  佐藤 充 ,  中山 寿昌
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社
Agent (1)： 服部 平八
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995047926
Publication number (International publication number)：1996029981
Application date： Feb. 14, 1995
Publication date： Feb. 02, 1996
Summary：

【要約】【構成】ポリヒドロキシスチレン、水酸基の1〜45モル%がtertーブトキシカルボニルオキシ基で置換されたポリヒドロキシスチレン、及び前記ポリヒドロキシスチレンの混合物からなる群から選ばれるポリヒドロキシスチレン、架橋剤及びトリス(2,3ージブロモプロピル)イソシアヌレートを含有してなるネガ型レジスト組成物【効果】 本発明のネガ型レジスト組成物は、高解像性で、かつ残膜率が高く、断面形状が良好なレジストパターンを形成することができ、微細加工化の進む半導体素子製造分野において好適に使用される。

Claim (excerpt)：

(A)ポリヒドロキシスチレン、(B)架橋剤及び(C)トリス(2,3ージブロモプロピル)イソシアヌレートを含有してなるネガ型レジスト組成物。

IPC (3)：

G03F 7/038 505 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

• レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-208302   Applicant：富士通株式会社
• 特開平3-087748
  
• 感光性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-194444   Applicant：三菱化成株式会社
• ネガ型感光性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-294623   Applicant：三菱化成株式会社
• 新規なネガ型レジスト材料及びパタ-ン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-191999   Applicant：松下電器産業株式会社, 和光純薬工業株式会社
• アリールトリフレート化合物、放射線酸発生剤、放射線酸発生剤系及び感放射線組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-150549   Applicant：日立化成工業株式会社
• 感光性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-188327   Applicant：株式会社東芝
• ネガ型感光性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-121049   Applicant：三菱化学株式会社