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J-GLOBAL ID：200903092010160062

マスクデータ補正装置、フーリエ変換装置、アップサンプリング装置、ダウンサンプリング装置、転写用マスクの製造方法、および、パターン構造を有する装置の製造方法

Inventor：
加門 和也

About 加門 和也


Applicant, Patent owner：
三菱電機株式会社

About 三菱電機株式会社


Agent (1)： 吉田 茂明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000214002
Publication number (International publication number)：2002031882
Application date： Jul. 14, 2000
Publication date： Jan. 31, 2002
Summary：
【要約】【課題】 レイアウトデータの階層構造を有効に利用して、精度を高く維持しつつ処理の能率を高めることのできるマスクデータ補正装置を提供する。【解決手段】 フーリエ変換部421は、レイアウトデータが規定する基本要素をフーリエ変換し、基本要素のフーリエ像を得る。合成部422は、階層構造にもとづいて基本要素のフーリエ像をフーリエ空間内で重ね合わせ、全体の図形のフーリエ像を得る。空間フィルタ部423は、全体の図形のフーリエ像に対して、製造プロセスで予測されるひずみに対応した空間フィルタ処理を施す。逆フーリエ変換部424は、空間フィルタ処理後のフーリエ像に対して、逆フーリエ変換を行い、ひずみを反映した逆フーリエ像を得る。レイアウトデータが規定する図形は、逆フーリエ像が変換された図形と比較され、ひずみを抑制する方向へ補正された上で、マスクデータとして出力される。
Claim (excerpt)：
階層構造を有する図形の基本要素の形状と前記階層構造とを規定するレイアウトデータと、製造プロセス条件とにもとづいて、製造プロセスに用いられる転写用マスクのパターン形状を表現するマスクデータを、製造プロセスで予測されるひずみを抑制する形態で生成するマスクデータ補正装置であって、前記基本要素をフーリエ変換することにより前記基本要素のフーリエ像を得るフーリエ変換部と、前記階層構造にもとづいて前記基本要素の前記フーリエ像をフーリエ空間内で合成することにより前記図形のフーリエ像を得る合成部と、前記図形の前記フーリエ像に対して、前記ひずみに対応した空間フィルタ処理を施す空間フィルタ部と、前記空間フィルタ処理を施された前記フーリエ像に対して、逆フーリエ変換を行うことにより、前記ひずみを反映した逆フーリエ像を得る逆フーリエ変換部と、前記逆フーリエ像を図形へ変換する図形変換部と、前記図形変換部が出力する前記図形と前記レイアウトデータが規定する前記図形とを比較することにより、前記ひずみを抑制する方向へ、前記レイアウトデータが規定する前記図形を補正し、前記マスクデータとして出力する図形補正部と、を備えるマスクデータ補正装置。
IPC (4)：
G03F 1/08 ,  H01L 21/027 ,  G06F 17/50 654 ,  G06F 17/50 658
FI (5)：
G03F 1/08 A ,  G06F 17/50 654 G ,  G06F 17/50 658 M ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 516 Z
F-Term (10)：
2H095BA01 ,  2H095BB01 ,  2H095BB07 ,  5B046AA08 ,  5B046BA04 ,  5B046GA06 ,  5F046AA25 ,  5F046BA03 ,  5F046CB17 ,  5F046DA11
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (9)
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