レーザプラズマX線発生装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：進藤純一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000176571
Publication number (International publication number)：2001357997
Application date： Jun. 13, 2000
Publication date： Dec. 26, 2001
Summary：

【要約】【課題】安定したクライオターゲット層を連続的に供給し、安定した高平均出力のパルスX線を連続して繰り返し発生させ。【解決手段】極低温に保持した回転体の表面に、希ガス等を接触させ、冷却し、固体化して堆積させてクライオターゲット層を形成させ、その表面にパルスレーザ光を集光照射してパルスX線を発生させるレーザプラズマ発生装置において、回転体を回転方向および軸方向への移動を制御して、空間的に固定された集光照射点を回転体表面に対し所定の軌跡を描いて移動させ、かつ、回転体軸方向移動の反転の前後で集光照射の周方向ピッチが周方向に半ピッチ分(Px/2)ずれ、反転時にクレータCを集光照射しないようにして、修復時間を確保する。

Claim (excerpt)：

化学的に不活性で室温でガス状のターゲット材を、液体窒素等により極低温に冷却された円筒形状を有する回転体の表面に接触させ、冷却することにより、固体化して前記回転体の表面に堆積したクライオターゲット層を形成し、該クライオターゲット層の表面に、高尖頭パワーを有し所定の周波数で繰り返し出力されるパルスレーザ光を集光照射するとともに、前記回転体の回転方向または軸方向への移動あるいはそれら2方向への移動の組み合わせにより、空間的に固定されたパルスレーザ光の集光照射点に対して前記クライオターゲット層を有する回転体表面を面方向へ移動させて、該回転体表面上で前記集光照射点を所定の軌跡を描くように移動させ、前記パルスレーザ光の集光照射により高温高密度プラズマを生成し、該高温高密度プラズマからパルスX線を連続的に繰り返し発生させるレーザプラズマX線発生装置において、前記集光照射点の移動の軌跡の回転体軸方向両端近傍で、前記回転体の軸方向移動の反転時に、パルスレーザ光が、前回以前のプラズマ生成により発生しクライオターゲット層表面に残されてその後修復できていないクレータを集光照射しないように、前記回転体の回転方向および軸方向の移動を制御することを特徴とするレーザプラズマX線発生装置。

IPC (2)：

H05G 2/00 , G21K 5/02

FI (2)：

G21K 5/02 X , H05G 1/00 K

F-Term (4)：

4C092AA06 , 4C092AA16 , 4C092AB12 , 4C092AB19

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

X線発生方法およびX線発生装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-051866 Applicant：株式会社ニコン
X線発生装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-007098 Applicant：株式会社豊田中央研究所
レーザープラズマX線発生装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-329940 Applicant：株式会社島津製作所

Show all

Return to Previous Page