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J-GLOBAL ID:200903095663238368
吸着固定装置及びその製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
志賀 正武 (外6名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001278360
Publication number (International publication number):2003086664
Application date: Sep. 13, 2001
Publication date: Mar. 20, 2003
Summary:
【要約】【課題】 パーティクルの発生等の不具合が生じることなしに、固定、矯正、搬送等を行うことができる吸着固定装置及びその製造方法を提供する。【解決手段】 本発明の吸着固定装置は、基体を構成する誘電体13の上面を板状試料1を吸着固定するための吸着固定面とし、この吸着固定面に突起または溝を形成して凹凸面とし、この凹凸面の凸部15の頂面24を板状試料1の保持面とし、さらに、この凹凸面の凸部15の頂面24及び側面25と、この凹凸面の凹部26の底面27とを共に研磨したことを特徴とする。
Claim (excerpt):
基体の一主面が板状試料を吸着固定する吸着固定面とされ、該吸着固定面は突起または溝が形成されて凹凸面とされ、該凹凸面の凸部の頂面が前記板状試料の保持面とされた吸着固定装置において、前記凹凸面の凸部の頂面及び側面と、前記凹凸面の凹部の底面とは、共に研磨されていることを特徴とする吸着固定装置。
IPC (4):
H01L 21/68
, H02N 13/00
, B23Q 3/08
, B23Q 3/15
FI (5):
H01L 21/68 R
, H01L 21/68 P
, H02N 13/00 D
, B23Q 3/08 A
, B23Q 3/15 D
F-Term (12):
3C016DA01
, 3C016GA10
, 5F031CA02
, 5F031HA03
, 5F031HA08
, 5F031HA13
, 5F031HA16
, 5F031HA32
, 5F031HA33
, 5F031HA40
, 5F031PA23
, 5F031PA26
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (13)
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基板の吸着保持装置およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-111166
Applicant:キヤノン株式会社
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ウエハ保持台用セラミックス部材の作製方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-277657
Applicant:住友金属工業株式会社
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CVD処理用ウエハ収容トレー
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-293553
Applicant:日立電子エンジニアリング株式会社
-
大型マスク形成用の磁気中性線放電プラズマ処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-205154
Applicant:日本真空技術株式会社
-
吸着プレート及び真空吸引装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-361034
Applicant:日本特殊陶業株式会社
-
非接触型静電吸着装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-152153
Applicant:東陶機器株式会社
-
静電チャックおよび処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-145507
Applicant:東陶機器株式会社, 日本真空技術株式会社
-
特開昭63-226939
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基板吸着プレート
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-295376
Applicant:大日本印刷株式会社
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ウエハ処理方法及び処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-100362
Applicant:富士通株式会社
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特開昭63-226939
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静電チャック
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平9-529650
Applicant:サフィコンインコーポレイテッド
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静電チャック
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-081186
Applicant:イビデン株式会社
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