Art

J-GLOBAL ID：201002272995768251   Reference number：10A0066038

Increase in Adhesion Strength and Thickness of Cubic Boron Nitride Thin Films by Silicon Addition

Si添加による立方晶窒化ホウ素薄膜の密着性向上と厚膜化

Author (7)： OHORI TETSUTARO (長岡技術科学大学極限エネルギー密度工学研究センター) ,  SHIRAHATA JUN (長岡技術科学大学極限エネルギー密度工学研究センター) ,  ASAMI HIROKI (長岡技術科学大学極限エネルギー密度工学研究センター) ,  SUZUKI TSUNEO (長岡技術科学大学極限エネルギー密度工学研究センター) ,  NAKAYAMA TADACHIKA (長岡技術科学大学極限エネルギー密度工学研究センター) ,  SUEMATSU HISAYUKI (長岡技術科学大学極限エネルギー密度工学研究センター) ,  NIIHARA KOICHI (長岡技術科学大学極限エネルギー密度工学研究センター)
Material： 日本金属学会誌  (Journal of the Japan Institute of Metals and Materials)
Volume： 74  Issue： 1  Page： 36-41 (J-STAGE)  Publication year： 2010 
JST Material Number： G0023A  ISSN： 0021-4876  CODEN： NIKGAV  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： ceramics ,  *boron nitride ,  additive effect ,  silicon ,  *thin film growth ,  *ceramic tool ,  sputtered deposition ,  RF sputtering ,  *magnetron sputtering ,  combinatorial chemistry ,  affinity ,  concentration distribution ,  thick film ,  rate of sedimentation ,  film thickness ,  adhesion property ,  nanoindentation ,  indentation hardness ,  phase constitution ,  FTIR spectroscopy ,  Rutherford scattering spectroscopy ,  surface structure ,  scanning electron microscope ,  exfoliation ,  CBN (ceramic) ,  structure
Semi thesaurus term： CBN ,  surface tissue

JST classification (1)： Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A)

Reference (22)：

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• 2) S. Matsumoto and W. J. Zhang: Diamond Relat. Mater. 10(2001) 1868-1874.
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• 4) S. Ulrich, E. Nold, K. Sell, M. Stuber, J. Ye and C. Ziebert: Surf. Coat. Technol. 200(2006) 6465-6468.
• 5) A. Kolitsch, X. Wang, D. Manova, W. Fukarek, W. Moller and S. Oswald: Diamond Relat. Mater. 8(1999) 386-390.

Terms in the title (5)： Si ,  立方晶窒化ホウ素 ,  薄膜 ,  密着性 ,  厚膜