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J-GLOBAL ID：201003026681712548

浄化処理装置及び浄化処理方法

Inventor：
山嵜 和幸

About 山嵜 和幸

, 
中條 数美

About 中條 数美

, 
岩田 耕治

About 岩田 耕治


Applicant, Patent owner：
シャープ株式会社

About シャープ株式会社


Agent (1)： 特許業務法人原謙三国際特許事務所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008294754
Publication number (International publication number)：2010119940
Application date： Nov. 18, 2008
Publication date： Jun. 03, 2010
Summary：
【課題】ナノバブル含有液体を利用して被処理液体を浄化処理する装置を低コスト且つ短時間で製作することができる。【解決手段】本発明の浄化処理装置101は、マイクロバブル発生槽5内に導入された被処理水を用いてマイクロバブル含有液体を作製するマイクロバブル発生装置65と、マイクロナノバブル発生槽11内に導入されたマイクロバブル含有液体を用いてマイクロナノバブル含有液体を作製するマイクロナノバブル発生装置66と、ナノバブル発生槽20内に導入されたマイクロナノバブル含有液体を用いてナノバブル含有液体を作製するナノバブル発生装置67と、導入されたナノバブル含有液体を浄化処理する浄化処理手段とを備えているので、ナノバブル含有液体を利用して被処理液体を浄化処理する装置を低コスト且つ短時間で製作することができる。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
第1の槽内に導入された被処理液体を用いて第1の微細気泡含有液体を作製する第1のマイクロバブル含有液体作製手段と、 第2の槽内に導入された第1の微細気泡含有液体を用いて第2の微細気泡含有液体を作製する第2のマイクロバブル含有液体作製手段と、 第3の槽内に導入された第2の微細気泡含有液体を用いて第3の微細気泡含有液体を作製する第3のマイクロバブル含有液体作製手段と、 第3の微細気泡含有液体を浄化処理する浄化処理手段とを備えていることを特徴とする浄化処理装置。
IPC (9)：
C02F 3/20 ,  B01F 3/04 ,  C02F 1/28 ,  B01D 61/18 ,  C02F 3/08 ,  C02F 1/44 ,  C02F 3/06 ,  C02F 3/12 ,  C02F 1/74
FI (12)：
C02F3/20 Z ,  B01F3/04 B ,  B01F3/04 C ,  C02F1/28 D ,  B01D61/18 ,  C02F3/08 B ,  C02F1/44 A ,  C02F3/08 Z ,  C02F3/06 ,  C02F3/12 N ,  C02F3/12 V ,  C02F1/74 Z
F-Term (61)：
4D003AA09 ,  4D003AA12 ,  4D003AB12 ,  4D003BA02 ,  4D003CA02 ,  4D003CA10 ,  4D003EA14 ,  4D003EA25 ,  4D003FA06 ,  4D006GA06 ,  4D006HA93 ,  4D006KA01 ,  4D006KA31 ,  4D006KA72 ,  4D006KB12 ,  4D006KB14 ,  4D006KB22 ,  4D006KB25 ,  4D006KB30 ,  4D006PA01 ,  4D006PB08 ,  4D006PC01 ,  4D028AB00 ,  4D028CC01 ,  4D028CD01 ,  4D029AA01 ,  4D029AA09 ,  4D029AB01 ,  4D029AB05 ,  4D029CC03 ,  4D050AA04 ,  4D050AA08 ,  4D050AA12 ,  4D050AA20 ,  4D050AB19 ,  4D050BB01 ,  4D050BD03 ,  4D050BD06 ,  4D050BD08 ,  4D050CA06 ,  4D050CA09 ,  4D050CA15 ,  4D050CA17 ,  4D624AA04 ,  4D624AB04 ,  4D624BA02 ,  4D624BB01 ,  4D624BC01 ,  4D624BC05 ,  4D624CA01 ,  4D624DB01 ,  4D624DB03 ,  4D624DB05 ,  4D624DB15 ,  4D624DB23 ,  4G035AA01 ,  4G035AB05 ,  4G035AB16 ,  4G035AC22 ,  4G035AE01 ,  4G035AE10
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
  • ナノバブルの利用方法及び装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-288963   Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所
  • ナノ気泡の生成方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-145325   Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所
  • 廃液の処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-121082   Applicant：日立エンジニアリング株式会社
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Cited by examiner (17)
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