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J-GLOBAL ID：201103050234572211

重合体、レジスト組成物、およびパターン形成方法

Inventor： 安斉 竜一 ,  藤原 匡之 ,  上田 昭史
Applicant, Patent owner： 三菱レイヨン株式会社
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2002211343
Publication number (International publication number)：2004051785
Patent number：4236423
Application date： Jul. 19, 2002
Publication date： Feb. 19, 2004
Claim (excerpt)：

【請求項1】 下記式(1) (式中、m、nはそれぞれ0〜3の整数を示し、R1は水素原子またはメチル基を示し、Z1は単環式飽和炭化水素構造または多環式飽和炭化水素構造を示す。ただし、mとnが同時に0であることはない。) で表される構成単位から選ばれる1種又は2種以上を構成単位として含有し、質量平均分子量が1,000〜100,000であることを特徴とする重合体。

IPC (3)：

C08F 20/28 ( 200 6.01) ,  G03F 7/039 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01)

FI (3)：

C08F 20/28 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

• 特開平1-242681
  
• 特開昭64-033182
  
• ラクトン構造を有する(メタ)アクリレート誘導体、重合体、フォトレジスト組成物、及びパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-188853   Applicant：日本電気株式会社
• (メタ)アクリル酸5-オキソ-4,8-ジオキサトリシクロ[4.2.1.03,7]ノナン-2-イルの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-222562   Applicant：株式会社クラレ
• ポジ型フォトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-115497   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型フォトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-231670   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型フォトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-215574   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• (共)重合体、レジスト組成物、およびパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-276560   Applicant：三菱レイヨン株式会社