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J-GLOBAL ID:201103073755361233
大面積グラフェンの製造方法及び転写方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
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Agent (2):
渡邊 隆
, 実広 信哉
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2010251597
Publication number (International publication number):2011105590
Application date: Nov. 10, 2010
Publication date: Jun. 02, 2011
Summary:
【課題】大面積グラフェンの製造方法及び転写方法を提供する。【解決手段】基板上にグラフェン層、保護層及び接着層を順次に形成した後、基板を除去し、次に、転写基板上に、グラフェン層が接触するように、グラフェン層を整列する段階を含む大面積グラフェン転写方法である。【選択図】図5
Claim (excerpt):
基板上にグラフェン層を形成する段階と、
前記グラフェン層上に、保護層及び接着層を順次に形成する段階と、
前記基板を前記グラフェン層から除去する段階と、
転写基板上に、前記グラフェン層が接触するように、前記グラフェン層を整列する段階と、
前記接着層及び保護層を順次に除去する段階と、を含む大面積グラフェン転写方法。
IPC (1):
FI (1):
F-Term (17):
4G146AA02
, 4G146AB07
, 4G146AD05
, 4G146AD28
, 4G146BA12
, 4G146BA48
, 4G146BB22
, 4G146BB23
, 4G146BC08
, 4G146BC44
, 4G146CB12
, 4G146CB15
, 4G146CB20
, 4G146CB21
, 4G146CB23
, 4G146CB26
, 4G146CB29
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (14)
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