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J-GLOBAL ID:201103084963020441
残存ガスの回収方法
Inventor:
,
,
,
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (6):
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 渡邊 隆
, 鈴木 三義
, 西 和哉
, 村山 靖彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2010101386
Publication number (International publication number):2011230037
Application date: Apr. 26, 2010
Publication date: Nov. 17, 2011
Summary:
【課題】シリンダーに残存する混合ガスを効率良く分離回収することで、より適切な除害処理やリサイクルを行うことが可能な残存ガスの回収方法を提供する。【解決手段】シリンダーに残存する混合ガスを、分子ふるい作用を有する気体分離膜を備える分離膜モジュールに連続的に供給し、前記混合ガスを分子径の小さなガス成分と分子径の大きなガス成分とに分離した後、前記分子径の小さなガス成分と前記分子径が大きなガス成分とをそれぞれ回収することを特徴とする残存ガスの回収方法を選択する。【選択図】なし
Claim (excerpt):
シリンダーに残存する混合ガスを、分子ふるい作用を有する気体分離膜を備える分離膜モジュールに連続的に供給し、前記混合ガスを分子径の小さなガス成分と分子径の大きなガス成分とに分離した後、前記分子径の小さなガス成分と前記分子径が大きなガス成分とをそれぞれ回収することを特徴とする残存ガスの回収方法。
IPC (2):
FI (2):
B01D53/22
, B01D71/02 500
F-Term (17):
4D006GA42
, 4D006HA02
, 4D006HA18
, 4D006KA11
, 4D006KA67
, 4D006KE07P
, 4D006KE09P
, 4D006KE24Q
, 4D006KE28P
, 4D006MA01
, 4D006MB04
, 4D006MC03
, 4D006MC05
, 4D006PA04
, 4D006PB20
, 4D006PB70
, 4D006PC01
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (15)
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Application number:特願2001-231753
Applicant:山陽電子工業株式会社
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Application number:特願平11-143140
Applicant:エアー.プロダクツ.アンド.ケミカルス.インコーポレーテッド
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特開昭49-123185
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特開昭56-073504
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Application number:特願2010-101381
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Application number:特願2010-101385
Applicant:大陽日酸株式会社, 独立行政法人産業技術総合研究所
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