Pat
J-GLOBAL ID:201203006192645106
導電性基板
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (5):
大谷 保
, 東平 正道
, 塚脇 正博
, 片岡 誠
, 平澤 賢一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2012016932
Publication number (International publication number):2012104857
Application date: Jan. 30, 2012
Publication date: May. 31, 2012
Summary:
【課題】基材として耐熱性の低い材料を用いることができ、実用上十分な導電性を有し、かつ基材と導電性薄膜の密着性が高い導電性基板を提供すること。【解決手段】基材上に導電性薄膜を有する導電性基板の製造方法であって、該導電性基板は、該導電性薄膜の少なくとも最表面は金属微粒子が融着しており、該導電性薄膜の少なくとも基材と接する面は微粒子が粒子形状を維持しており、基材上に金属又は金属化合物の微粒子の分散液を印刷し、焼成することによって少なくとも最表面の金属微粒子を融着することを特徴とする、導電性基板の製造方法である。【選択図】なし
Claim (excerpt):
基材上に導電性薄膜を有する導電性基板の製造方法であって、該導電性基板は、該導電性薄膜の少なくとも最表面は金属微粒子が融着しており、該導電性薄膜の少なくとも基材と接する面は微粒子が粒子形状を維持しており、基材上に金属又は金属化合物の微粒子の分散液を印刷し、焼成することによって少なくとも最表面の金属微粒子を融着することを特徴とする、導電性基板の製造方法。
IPC (3):
H05K 3/12
, H01B 13/00
, B32B 15/04
FI (3):
H05K3/12 610D
, H01B13/00 503B
, B32B15/04 Z
F-Term (31):
4F100AB01B
, 4F100AB17
, 4F100AG00
, 4F100AT00A
, 4F100BA02
, 4F100DE01B
, 4F100EJ61
, 4F100GB41
, 4F100JG01
, 4F100JJ03
, 5E343AA02
, 5E343AA12
, 5E343AA23
, 5E343AA26
, 5E343BB23
, 5E343BB24
, 5E343BB25
, 5E343BB28
, 5E343BB34
, 5E343BB44
, 5E343BB72
, 5E343DD02
, 5E343EE46
, 5E343ER35
, 5E343ER36
, 5E343ER42
, 5E343GG02
, 5E343GG13
, 5G323BA01
, 5G323BB06
, 5G323BC01
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
-
導電性接合の形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-276060
Applicant:ハリマ化成株式会社
-
微細配線パターンの形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-280965
Applicant:ハリマ化成株式会社
-
導電パターン描画用基板およびインク、ならびに導電パターンの形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-335141
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
積層体およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-077558
Applicant:旭化成株式会社
-
配線基板およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-335268
Applicant:松下電器産業株式会社
-
配線基板およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-206037
Applicant:京セラ株式会社
-
回路基板の製造方法及び回路基板
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-367457
Applicant:松下電工株式会社
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