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J-GLOBAL ID:201303033155004634

配線基板

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3): 岸本 達人 ,  星野 哲郎 ,  山下 昭彦
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2005089448
Publication number (International publication number):2005311349
Patent number:4775995
Application date: Mar. 25, 2005
Publication date: Nov. 04, 2005
Claim (excerpt):
【請求項1】 絶縁層及び配線層を有する配線基板において、少なくとも一つの配線層は金属部からなるとともに、2つの絶縁層の間に積層されており、第1の絶縁層に接する第1の界面部位及び第2の絶縁層に接する第2の界面部位は、当該配線層の厚さ方向の中間部位よりも気孔率が大きい多孔質金属からなることを特徴とする配線基板。
IPC (1):
H05K 3/46 ( 200 6.01)
FI (1):
H05K 3/46 S
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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