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J-GLOBAL ID：201403075998474235
めっき膜の製造方法
Inventor：
,
,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：
伊藤 進
, 長谷川 靖
, 篠浦 治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2012277026
Publication number (International publication number)：2014118623
Application date： Dec. 19, 2012
Publication date： Jun. 30, 2014
Summary：
【課題】樹脂基体10に密着性の高いめっき膜を成膜できる、めっき膜の製造方法を提供する。【解決手段】めっき膜の製造方法は、ポリプロピレンを主成分とし平均粒径が0.05〜1μmのゴム成分を含む樹脂基体10を準備する工程と、樹脂基体10を50〜90°Cのキシレンに5〜60分間、浸漬し膨潤する工程と、樹脂基体10を平均径が0.1〜100μmのオゾンの気泡を含みオゾン濃度が0.1〜2.0ppmで温度が15〜40°Cのオゾン水20に1〜60分間、浸漬する工程、又は、樹脂基体10に、波長が150〜300nmで強度が5〜100mW/cm2の紫外線を大気中で、1〜30分間照射する工程と、樹脂基体10にパラジウム触媒を付与する工程と、樹脂基体10に無電解めっき膜を成膜する工程と、を具備する。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
ポリプロピレンを主成分とし、平均粒径が0.05〜1μmのゴム成分を含む樹脂基体を準備する工程と、
前記樹脂基体を、50〜90°Cのキシレンに、5〜60分間、浸漬し膨潤する工程と、
前記樹脂基体を、平均径が0.1〜100μmのオゾンの気泡を含みオゾン濃度が0.1〜2.0ppmで、温度が15〜40°Cのオゾン水に、1〜60分間、浸漬する工程、又は、前記樹脂基体に、波長が150〜300nmで、強度が5〜100mW/cm2の紫外線を大気中で、1〜30分間照射する工程と、
前記樹脂基体にパラジウム触媒を付与する工程と、
前記樹脂基体に無電解めっき膜を成膜する工程と、を具備することを特徴とするめっき膜の製造方法。
IPC (1)：
FI (1)：
F-Term (10)：
4K022AA13
, 4K022AA19
, 4K022AA42
, 4K022BA08
, 4K022BA14
, 4K022BA16
, 4K022CA02
, 4K022CA04
, 4K022CA06
, 4K022DA01
Cited by examiner (11)
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特開昭54-003170
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選択的無電解めっき層の成形方法。
Gazette classification：公開公報
Application number：特願2010-118757
Applicant：株式会社関東学院大学表面工学研究所, 三共化成株式会社
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無電解めっき方法及び金属張積層板の製造方法
Gazette classification：公開公報
Application number：特願2011-022984
Applicant：学校法人関東学院
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