Art

J-GLOBAL ID：201502229232443355   Reference number：15A0532907

Homoepitaxial growth of β-Ga₂O₃ layers by halide vapor phase epitaxy

ハロゲン化物気相成長によるβ-Ga₂O₃層のホモエピタキシャル成長

Author (15)： MURAKAMI Hisashi (Tokyo Univ. Agriculture and Technol., Tokyo, JPN) ,  NOMURA Kazushiro (Tokyo Univ. Agriculture and Technol., Tokyo, JPN) ,  GOTO Ken (Tamura Corp., Saitama, JPN) ,  SASAKI Kohei (Tamura Corp., Saitama, JPN) ,  SASAKI Kohei (National Inst. Information and Communications Technol., Tokyo, JPN) ,  KAWARA Katsuaki (Tokyo Univ. Agriculture and Technol., Tokyo, JPN) ,  THIEU Quang Tu (Tokyo Univ. Agriculture and Technol., Tokyo, JPN) ,  TOGASHI Rie (Tokyo Univ. Agriculture and Technol., Tokyo, JPN) ,  KUMAGAI Yoshinao (Tokyo Univ. Agriculture and Technol., Tokyo, JPN) ,  HIGASHIWAKI Masataka (National Inst. Information and Communications Technol., Tokyo, JPN) ,  KURAMATA Akito (Tamura Corp., Saitama, JPN) ,  YAMAKOSHI Shigenobu (Tamura Corp., Saitama, JPN) ,  MONEMAR Bo (Tokyo Univ. Agriculture and Technol., Tokyo, JPN) ,  MONEMAR Bo (Linkoeping Univ., Linkoeping, SWE) ,  KOUKITU Akinori (Tokyo Univ. Agriculture and Technol., Tokyo, JPN)
Material： Applied Physics Express  (APEX)
Volume： 8  Issue： 1  Page： 015503.1-015503.4  Publication year： Jan. 2015 
JST Material Number： F0599C  ISSN： 1882-0778  CODEN： APEPC4  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *chemical vapor deposition ,  *halide ,  *gallium oxide ,  homoepitaxy ,  morphology ,  *surface structure ,  X-Ray Diffraction ,  surface morphology ,  *structure
Semi thesaurus term： *chemical vapor deposition

JST classification (2)： Crystal growth of semiconductors  (BK13040X) ,  Techniques and equipment of crystal growth  (BK13020B)

Reference (23)：

• Y. Kokubun, K. Miura, F. Endo, and S. Nakagomi, Appl. Phys. Lett. 90, 031912 (2007).
• T. Oshima, T. Okuno, and S. Fujita, Jpn. J. Appl. Phys. 46, 7217 (2007).
• M. Higashiwaki, K. Sasaki, A. Kuramata, T. Masui, and S. Yamakoshi, Appl. Phys. Lett. 100, 013504 (2012).
• M. Higashiwaki, K. Sasaki, T. Kamimura, M. H. Wong, D. Krishnamurthy, A. Kuramata, T. Masui, and S. Yamakoshi, Appl. Phys. Lett. 103, 123511 (2013).
• M. Higashiwaki, K. Sasaki, A. Kuramata, T. Masui, and S. Yamakoshi, Phys. Status Solidi A 211, 21 (2014).

Terms in the title (5)： ハロゲン化物 ,  気相成長 ,  β-Ga2O3 ,  ホモ ,  エピタキシャル成長