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J-GLOBAL ID:201503074380794264

光電変換素子、及び、光電変換素子の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 伊東 忠重 ,  伊東 忠彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2014203923
Publication number (International publication number):2015099915
Application date: Oct. 02, 2014
Publication date: May. 28, 2015
Summary:
【課題】良好なpn接合が得られ、暗電流を低減でき、高S/N比が得られる可視光用の光電変換素子、及び、光電変換素子の製造方法を提供する。【解決手段】光電変換素子10は、第1電極層2と、第1電極層2に積層されるp型半導体層3と、p型半導体層に積層されるn型半導体層4と、n型半導体層4に積層されるノンドープの酸化ガリウム層5と、ノンドープの酸化ガリウム層5に積層される第2電極層6とを具え、n型半導体層4は、酸素欠陥又は不純物注入によってキャリア濃度が増大された酸化ガリウム層で構成される。【選択図】図1
Claim (excerpt):
第1電極層と、 前記第1電極層に積層されるp型半導体層と、 前記p型半導体層に積層されるn型半導体層と、 前記n型半導体層に積層されるノンドープの酸化ガリウム層と、 前記ノンドープの酸化ガリウム層に積層される第2電極層と を具え、 前記n型半導体層は、酸素欠陥又は不純物注入によってキャリア濃度が増大された酸化ガリウム層で構成される、光電変換素子。
IPC (1):
H01L 31/107
FI (1):
H01L31/10 B
F-Term (11):
5F049MA03 ,  5F049MA07 ,  5F049MB01 ,  5F049MB12 ,  5F049NA04 ,  5F049NA05 ,  5F049PA07 ,  5F049QA03 ,  5F049SE04 ,  5F049SS01 ,  5F049WA03
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (8)
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Cited by examiner (8)
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