Pat
J-GLOBAL ID:201603018446607500
検査装置および検査方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (3):
松阪 正弘
, 田中 勉
, 井田 正道
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2014198207
Publication number (International publication number):2016070732
Application date: Sep. 29, 2014
Publication date: May. 09, 2016
Summary:
【課題】偽欠陥の検出を抑制して、欠陥を精度よく検出する。【解決手段】撮像画像の各画素の値と参照画像の対応する画素の値との差に基づいて検出される第1欠陥候補領域と、撮像画像の各画素の値と参照画像の対応する画素の値との比に基づいて検出される第2欠陥候補領域とにおいて重複する領域が欠陥領域として検出される。これにより、偽欠陥の検出を抑制して、欠陥を精度よく検出することができる。好ましい欠陥検出部62では、ゆすらせ比較部623において撮像画像と参照画像との間の画素の値の差に基づいて欠陥候補領域が検出され、虚報低減処理部629において上記比を求める画素が、当該欠陥候補領域に含まれる画素に制限される。これにより、欠陥を効率よく検出することが可能となる。【選択図】図9
Claim (excerpt):
対象物の表面の欠陥を検出する検査装置であって、
対象物を撮像することにより撮像画像を取得する撮像部と、
前記撮像画像に対応する参照画像を記憶する記憶部と、
前記撮像画像の各画素の値と前記参照画像の対応する画素の値との差に基づいて検出される第1欠陥候補領域と、前記撮像画像の各画素の値と前記参照画像の対応する画素の値との比に基づいて検出される第2欠陥候補領域とにおいて重複する領域を欠陥領域として検出する、または、前記撮像画像と前記参照画像との差分画像の各画素の値と前記参照画像の対応する画素の値との比に基づいて欠陥領域を検出する欠陥検出部と、
を備えることを特徴とする検査装置。
IPC (1):
FI (1):
F-Term (18):
2G051AA07
, 2G051AB07
, 2G051AC02
, 2G051AC21
, 2G051BB02
, 2G051BC07
, 2G051CA04
, 2G051CA08
, 2G051CB01
, 2G051CD05
, 2G051DA08
, 2G051EA11
, 2G051EA14
, 2G051EA16
, 2G051EB01
, 2G051ED09
, 2G051ED11
, 2G051ED15
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (12)
-
光学検査装置および光学検査方法、並びにカラーフィルタの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-312673
Applicant:シャープ株式会社
-
形状特徴に基づく欠陥検出方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-002018
Applicant:シュルンベルジェテクノロジー,インコーポレーテッド
-
外観検査装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2006-205096
Applicant:住友電気工業株式会社
-
二値画像生成装置、分類装置、二値画像生成方法および分類方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2011-285433
Applicant:大日本スクリーン製造株式会社
-
欠陥検査装置及び欠陥検査方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2009-008161
Applicant:株式会社東京精密
-
パターン検査装置、パターン検査方法及びプログラム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2007-295223
Applicant:アドバンスド・マスク・インスペクション・テクノロジー株式会社
-
ウェーハ欠陥検査装置及びウェーハ欠陥検査方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2010-109520
Applicant:株式会社SUMCO
-
欠陥検査装置及び欠陥検査方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2007-268172
Applicant:株式会社東京精密
-
シミ欠陥検出方法およびシミ欠陥検出装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2007-004611
Applicant:セイコーエプソン株式会社
-
外観検査装置および外観検査方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-353838
Applicant:セイコーエプソン株式会社
-
外観検査方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-318375
Applicant:日立金属株式会社
-
特開平4-254746
Show all
Return to Previous Page