Pat
J-GLOBAL ID:201703007853457666

X線反射装置及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (6): 辻居 幸一 ,  熊倉 禎男 ,  大塚 文昭 ,  西島 孝喜 ,  須田 洋之 ,  上杉 浩
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2013014320
Publication number (International publication number):2014145659
Patent number:6172433
Application date: Jan. 29, 2013
Publication date: Aug. 14, 2014
Claim (excerpt):
【請求項1】 一方の面から他方の面へ貫通する穴を複数有し、当該穴の側壁をX線反射面として使用するシリコン基板であって、当該一方の面又は他方の面のいずれか一方の面のみに金属薄膜を鍍金し、当該鍍金した薄膜の応力により湾曲したシリコン基板を含むことを特徴とするX線反射装置。
IPC (4):
G21K 1/06 ( 200 6.01) ,  G21K 7/00 ( 200 6.01) ,  G21K 1/00 ( 200 6.01) ,  G01T 1/29 ( 200 6.01)
FI (5):
G21K 1/06 D ,  G21K 7/00 ,  G21K 1/06 B ,  G21K 1/00 X ,  G01T 1/29 C
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
Show all

Return to Previous Page