X線反射装置及びその製造方法

Inventor： , , , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (6)：辻居幸一 , 熊倉禎男 , 大塚文昭 , 西島孝喜 , 須田洋之 , 上杉浩
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2013014320
Publication number (International publication number)：2014145659
Patent number：6172433
Application date： Jan. 29, 2013
Publication date： Aug. 14, 2014
Claim (excerpt)：

【請求項1】一方の面から他方の面へ貫通する穴を複数有し、当該穴の側壁をX線反射面として使用するシリコン基板であって、当該一方の面又は他方の面のいずれか一方の面のみに金属薄膜を鍍金し、当該鍍金した薄膜の応力により湾曲したシリコン基板を含むことを特徴とするX線反射装置。

IPC (4)：

G21K 1/06 ( 200 6.01) , G21K 7/00 ( 200 6.01) , G21K 1/00 ( 200 6.01) , G01T 1/29 ( 200 6.01)

FI (5)：

G21K 1/06 D , G21K 7/00 , G21K 1/06 B , G21K 1/00 X , G01T 1/29 C

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (7)

X線ズームレンズ
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2001-540790 Applicant：ビーティージー・インターナショナル・リミテッド
特開昭60-135951
マイクロ構造体の製造方法および放射線吸収格子
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2010-028177 Applicant：キヤノン株式会社

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Cited by examiner (7)

X線ズームレンズ
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特開昭60-135951
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