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J-GLOBAL ID:201801019087719457
Update date: Nov. 02, 2024
Toshiyuki Kawaharamura
カワハラムラ トシユキ | Toshiyuki Kawaharamura
Affiliation and department:
Research field (1):
Inorganic materials
Research keywords (5):
process engineering
, analysis of functional thin film
, thin film fabrication
, mist dynamics
, mist CVD
Research theme for competitive and other funds (13):
- 2022 - 2023 ライデンフロスト現象を利用したエネルギー回生システムの開発
- 2018 - 2022 Basic research on nanostructure control for the fabrication of ultra-wide bandgap oxide quantum devices by mist CVD
- 2017 - 2021 Development of a high sensitive hydrogen gas detector based on the photoluminescence property of ZnO-based nanostructures
- 2017 - 2019 Development of monolithic cavity wavelength converter made of widegap semiconductors
- 2016 - 2019 ミストCVDによる高耐圧HEMTの作製
- 2015 - 2019 Development of next generation mist CVD enabling atomic level control & development of oxide quantum devices
- 2015 - 2017 高品質/高均質薄膜を実現する非真空成膜プロセスの研究開発
- 2014 - 2016 Basic behavior analysis of the Leidenfrost droplet toward the functional thin film fabrication on the three-dimensional object
- 2013 - 2016 Evolution of functional single-crystalline oxide thin films by mist deposition
- 2012 - 2015 Development of high efficiency dye-sensitized solar cells combing the ZnO nanostructures and carbon nanotubes as the electrodes
- 2010 - 2011 Application technology development harnessing mist characteristics-The mist method for fabrication technology of electronic devices-
- 2008 - 2009 Development of atmospheric-pressure plasma applied mist chemical vapor deposition and ZnO thin film growth under room temperature using the method.
- 2007 - 2008 新規酸化物薄膜作製法・ミストCVD法の確立、及び、それによる成長膜の特性研究
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Papers (84):
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Tatsuya Yasuoka, Li Liu, Giang T. Dang, Toshiyuki Kawaharamura. Growth of α-Ga2O3 from Gallium Acetylacetonate under HCl Support by Mist Chemical Vapor Deposition. Nanomaterials. 2024
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Kazuki Ikeyama, Hidemoto Tomita, Sayaka Harada, Takashi Okawa, Li Liu, Toshiyuki Kawaharamura, Hiroki Miyake, Yoshitaka Nagasato. Enhanced field-effect mobility (>250 cm2/V·s) in GaN MOSFETs with deposited gate oxides via mist CVD. Applied Physics Express. 2024. 17. 6. 064002-064002
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Yoko Taniguchi, Hiroyuki Nishinaka, Kazuki Shimazoe, Toshiyuki Kawaharamura, Kazutaka Kanegae, Masahiro Yoshimoto. Visible-light absorption of indium oxide thin films via Bi3+ doping for visible-light-responsive photocatalysis. Materials Chemistry and Physics. 2024. 315
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Toshiyuki Kawaharamura, Misaki Nishi, Li Liu, Phimolphan Rutthongjan, Yuna Ishikawa, Masahito Sakamoto, Tatsuya Yasuoka, Kanta Asako, Tamako Ozaki, Miyabi Fukue, et al. Growth mechanism under the supply-limited regime in mist chemical vapor deposition: presumption of mist droplet state in high-temperature field. Japanese Journal of Applied Physics. 2023. 63. 1. 015502-015502
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Naoto Oishi, Tatsuya Yasuoka, Toshiyuki Kawaharamura, Noriko Nitta. Competition between ion beam sputtering and self-organization of point defects for surface nanostructuring on germanium. Journal of Vacuum Science & Technology A. 2023. 41. 6
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MISC (161):
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大石脩人, 安岡龍也, 川原村敏幸, 新田紀子. イオンビーム照射に伴うGe微細構造形成におけるスパッタリングと点欠陥自己組織化の競合. 日本金属学会講演大会(Web). 2023. 173rd
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富田英幹, 原田彩花, 大川峰司, 長里喜隆, LIU Li, 川原村敏幸. GaN MOSFET characteristics of the controlled interface for vertical power devices. 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2021. 68th
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西美咲, LIU Li, 佐藤翔太, RUTTHONGJAN Phimolphan, 坂本雅仁, 上田真理子, 安岡龍哉, 長谷川諒, 田頭侑貴, 尾崎珠子, et al. ミストCVD法によるn型およびp型ZnO薄膜作製への挑戦. 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2019. 66th
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川原村敏幸, 川原村敏幸, 西美咲, LIU Li, 坂本雅仁, RUTTHONGJAN Phimolphan, 佐藤翔太, 上田真理子, 安岡達也, 長谷川諒, et al. ミストCVDにおける薄膜成長メカニズム. 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2019. 66th
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田原大祐, 西中浩之, 野田実, 佐藤翔太, 川原村敏幸, 吉本昌広. ミストCVD法によるn+-Si(100)基板上への強誘電体HfO2薄膜の作製とその電気的特性. 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2019. 66th
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Patents (45):
Lectures and oral presentations (20):
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GaN MOSFET characteristics of the controlled interface for vertical power devices
(応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 2021)
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Behavior and life time investigation of droplet around high temperature wall.
(日本機械学会年次大会講演論文集(CD-ROM) 2019)
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Analysis of mist flow in functional thin film deposition system ”KAGUYA” and optimization of flow path and deposition conditions
(日本機械学会年次大会講演論文集(CD-ROM) 2019)
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Observation of micro droplets flowing in high temperature gas phase
(日本機械学会年次大会講演論文集(CD-ROM) 2019)
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高温壁面近傍における液滴挙動と液滴消滅時間に関する研究
(日本機械学会中国四国支部総会・講演会講演論文集(CD-ROM) 2019)
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Education (4):
- 2005 - 2008 Kyoto University Graduate School of Engineering Department of Electronic Science and Engineering
- 2003 - 2005 Kyoto University Graduate School of Engineering Department of Chemical Engineering
- 1999 - 2003 Kyoto University Faculty of Engineering School of Industrial Chemistry
- 1996 - 1999 洛南高等学校
Work history (5):
- 2019/01 - 現在 Kochi University of Technology School of Systems Engineering Professor
- 2014/04 - 2018/12 Kochi University of Technology School of Systems Engineering
- 2005/04 - 2008/03 京都大学大学院 工学研究科電子工学専攻 博士後期課程
- 2003/04 - 2005/03 京都大学大学院 工学研究科化学工学専攻 修士課程
- 1999/04 - 2003/03 kyoto University
Committee career (11):
- 2017/12 - 現在 日本真空学会関西支部 プログラム委員
- 2016/01/19 - 現在 日本真空学会関西支部 幹事
- 2015/04 - 現在 香美市地球温暖化対策地域協議会 会長
- 2014/01/10 - 現在 薄膜材料デバイス研究会 実行委員
- 2013/04 - 現在 応用物理学会 プログラム委員
- 2008/03 - 現在 CVD研究会 幹事
- 2016/07/01 - 2019/03/31 ICMOVPE 総務
- 2017/09 - 2018/11 SSDM 50周年記念事業委員
- 2013/12 - 2016/11 SSDM 論文総務
- 2013/07/21 - 2013/07/27 ICCE 実行委員
- 2009/09 - 2011/09 電子材料シンポジウム 現地実行委員
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Awards (11):
- 2015/09 - 応用物理学会 第37回(2015年度) 応用物理学会論文奨励賞
- 2014/09 - Poster Award
- 2013/12 - The 20th International Display Workshops IDW '13 Outstanding Poster Paper Award
- 2013/07 - 4th ICST for ULSIC&TFT (an ECIC series) Overall Poster Winner
- 2011/11 - 第8回 薄膜材料デバイス研究会 ベストペーパーアワード
- 2010/11 - 第7回 薄膜材料デバイス研究会 ベストペーパーアワード
- 2007/09 - 第54回応用物理学関係連合講演会 第22回(2007年春期) 応用物理学会講演奨励賞
- 2007/07 - 第26回電子材料シンポジウム EMS賞
- 2007/06 - 京大VBL若手研究助成成果発表会 VBL若手研究助成奨励賞
- 2006/06 - 京大VBL若手研究助成成果発表会 VBL若手研究助成最優秀賞
- 2005/06 - 第3回ナノ工学高等研究員若手研究者発表会 ナノ工学高等研究員若手研究者優秀賞
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Association Membership(s) (3):
CVD研究会
, THE JAPAN SOCIETY OF MECHANICAL ENGINEERS
, THE JAPAN SOCIETY OF APPLIED PHYSICS
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