研究者

J-GLOBAL ID：200901028674800045 更新日: 2023年03月13日

中村健

ナカムラケン | Nakamura Ken

所属機関・部署：
職名：研究グループ長
その他の所属（所属・部署名・職名） (1件)：

国立研究開発法人産業技術総合研究所 TIA 推進センター共用施設ステーション付

ホームページURL (1件)： http://www.aist.go.jp/RESEARCHERDB/cgi-bin/worker_detail.cgi?call=namae&rw_id=K14745947

研究分野 (3件)：薄膜、表面界面物性 , 分析化学 , 基礎物理化学

論文 (27件)：

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MISC (6件)：

一村信吾, 野中秀彦, 黒河明, 中村健. 半導体プロセス技術のイノベーション高品位シリコン酸化膜のオゾンによる低温作製技術. 電子材料. 2003. 42. 5. 36-41
S Ichimura, K Nakamura, A Kurokawa, H Itoh, K Koike. Growth mechanism of SiO2 ultra-thin film on Si(100) by highly concentrated ozone supplied at low and high pressure conditions. PHYSICS AND CHEMISTRY OF SIO2 AND THE SI-SIO2 INTERFACE - 4. 2000. 2000. 2. 67-77
一村信吾, 黒河明, 中村健, 野中秀彦. 高純度オゾンビームを利用したシリコン酸化膜形成と表面クリーニング. 應用物理. 1998. 67. 6. 673-677
一村信吾, 野中秀彦, 黒河明, 中村健. 純オゾンビームの発生とシリコン極薄酸化膜作製への応用. 表面科学. 1997. 18. 12. 766-774
一村信吾, 中村健, 黒河明, 野中秀彦, 村上寛. 高純度オゾンによるシリコン酸化膜の作製と評価. 電子情報通信学会技術研究報告. 1997. 97. 220(CPM97 52-60). 13-18

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特許 (2件)：

液体オゾン生成装置の爆発防止方法および液体オゾン生成装置
シリコン酸化膜の形成方法

書籍 (2件)：

最新実用真空技術総覧
(株)エヌ・ティー・エス 2019 ISBN:9784860435592
調査報告書ー日本分析機器産業の競争力強化について
(独)産業技術総合研究所 2011

講演・口頭発表等 (4件)：

Silicon Oxidation by Ozone: Its Reaction with a Precursor Molecule during Overall Process
(3rd International Conference on Emerging Advanced Nanomaterials (ICEAN 2018) 2018)
Photoelectron detection from transient species in organic semiconducting thin films by dual laser pulse irradiation
(The 8th International Symposium on Surface Science (ISSS-8) 2017)
Development of two photon photoelectron yield spectroscopy
(20th International Vacuum Congress (IVC-20) 2016)
Production and Detection of OH Species by a Highly Concentrated Ozone Gas for Thin Film Processing
(12th International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures in conjunction with 21st International Colloquium on Scanning Probe Microscopy (ACSIN-12 & ICSPM21) 2013)

学歴 (3件)：

1988 - 1990 東京大学大学院理学系研究科化学専攻修士課程
1986 - 1988 東京大学理学部化学科
1983 - 1986 東京大学教養学部理科II類

経歴 (11件)：

2022/04 - 現在産総研分析計測標準研究部門応用ナノ計測研究グループ長
2021/04 - 現在産総研 TIA推進センター共用施設ステーション付(兼務)
2020/04 - 2022/03 産総研分析計測標準研究部門応用ナノ計測研究グループ上級主任研究員
2015/08 - 2021/03 産総研 TIA推進センター共用施設ステーション付(兼務)
2015/04 - 2020/03 産総研分析計測標準研究部門ナノ分光計測研究グループ長

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委員歴 (7件)：

2018/05 - 現在次世代センサ協議会技術委員会委員・材料WG 主査
2018/05 - 現在日本表面真空学会協議員
2016/07 - 2019/07 International Union for Vacuum Science, Technique and Applications (IUVSTA), Surface Engineering Division, Representative
2015/03 - 2018/03 日本真空学会理事
2016/04 - 2017/12 第58回真空に関する連合講演会実行委員長 (2017年真空・表面科学合同講演会委員会合同副委員長)

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受賞 (3件)：

2003/02 - 茨城県科学技術振興財団第13回つくば奨励賞(実用化部門)
2000/07 - 工業技術院電子技術総合研究所業務表彰業績賞
1997/07 - 応用物理学会第2回(1997年春季)応用物理学会講演奨励賞

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