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J-GLOBAL ID：200902137891039066   整理番号：02A0849332

high-k/SiO₂/Si構造のフォトレフレクタンス評価

著者 (5件)： 寒川雅之 (大阪大 基礎工) ,  神田浩文 (大阪大 基礎工) ,  金島岳 (大阪大 基礎工) ,  藤本晶 (和歌山工高専) ,  奥山雅則 (大阪大 基礎工)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 63rd  号： 2  ページ： 710  発行年： 2002年09月24日 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *二酸化ケイ素 ,...

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分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  その他の光学的効果  (BM08040H)

タイトルに関連する用語 (5件)： SiO2 ,  Si ,  フォト ,  レフレクタンス ,  評価