特許
J-GLOBAL ID：200903034797053500 金属ベリリウム、金属ベリリウム製造方法、金属ベリリウム製造装置およびX線計測用窓
出願人/特許権者：
株式会社テクノネットワーク四国
, 株式会社テクノネットワーク四国 について
田中科学機器製作株式会社
田中科学機器製作株式会社 について
代理人 (1件)： 松島 理
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-045547
公開番号（公開出願番号）：特開2005-232556
出願日： 2004年02月23日
公開日（公表日）： 2005年09月02日
要約：
【課題】この発明は、従来の製法とは異なる金属ベリリウムの製造方法を提供し、金属ベリリウム材料の選択範囲を拡大することを目的し、また、硫黄含有量の少ない金属ベリリウムの製造方法を提供するとともに、高精度の硫黄含有量分析に適した金属ベリリウムおよびベリリウム窓を提供することを目的とする。【解決手段】上記の課題を解決するために、本発明に係る金属ベリリウム製造装置1は、ベリリウム錯体を含む液体3を保持するための容器2と、液体3中に電磁波を照射するための電磁波照射手段4と、液体3中で基板6を保持する基板取り付け部と、液体3中に還元剤を供給する還元剤供給手段9を有するものである。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
ベリリウム錯体を含む液体を保持するための容器と、液体中に電磁波を照射するための電磁波照射手段と、液体中で基板を保持する基板取り付け部と、液体中に還元剤を供給する還元剤供給手段を有する金属ベリリウム製造装置。
IPC (3件)： FI (3件)：
Fターム (13件)：
2G088EE30
, 2G088FF02
, 2G088GG01
, 2G088GG21
, 2G088JJ08
, 2G088JJ10
, 2G088JJ37
, 4K001AA37
, 4K001DB17
, 4K001DB19
, 4K001HA09
, 4K001HA10
, 4K001HA12
引用特許： 出願人引用 (1件)
引用文献： - X線吸収端を用いた含有率測定方法及び装置
公報種別：公開公報 出願番号：特願2001-007750 出願人：田中科学機器製作株式会社
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特開平1-263261
- 高純度元素の製法
公報種別：公表公報 出願番号：特願平7-507046 出願人：ジョンソンマッセイエレクトロニクス,インコーポレイティド - 金属薄膜の製造方法
公報種別：公開公報 出願番号：特願平11-038448 出願人：日本酸素株式会社
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審査官引用 (1件)
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