特許

J-GLOBAL ID：201103069516150142

金属ベリリウム製造方法

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発明者： 野村 信福 ,  豊田 洋通 ,  倉本 誠 ,  山下 浩 ,  手塚 裕
出願人/特許権者： 国立大学法人愛媛大学
代理人 (1件)： 松島 理
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-045547
公開番号（公開出願番号）：特開2005-232556
特許番号：特許第4406692号
出願日： 2004年02月23日
公開日（公表日）： 2005年09月02日
請求項（抜粋）：

【請求項1】ベリリウム錯体を含む液体に基板を保持し、液体中に電磁波を照射して基板表面でプラズマを発生させ、基板上に膜状に金属ベリリウムの膜を生成する方法であり、液体中に還元剤を供給することを特徴とする金属ベリリウム製造方法。

IPC (4件)：

C22B 35/00 ( 200 6.01) ,  C22B 3/44 ( 200 6.01) ,  G01T 7/00 ( 200 6.01) ,  G21K 5/00 ( 200 6.01)

FI (4件)：

C22B 35/00 ,  C22B 3/00 T ,  G01T 7/00 A ,  G21K 5/00 W

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特開平1-263261
  
• 高純度元素の製法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平7-507046   出願人：ジョンソンマッセイエレクトロニクス,インコーポレイティド
• 金属薄膜の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-038448   出願人：日本酸素株式会社
• プラズマを発生させる方法およびプラズマ発生装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-098193   出願人：株式会社テクノネットワーク四国
• 液中プラズマ発生装置および薄膜形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-313979   出願人：株式会社テクノネットワーク四国

引用文献：

審査官引用 (1件)

• Preparation of high purity beryllium foils