文献

J-GLOBAL ID：201202134120825309   整理番号：12A1346456

フォトレフレクタンス分光法を用いたSi/SiO₂界面の応力評価

著者 (5件)： 寒川雅之 (大阪大 大学院基礎工学研究科) ,  江利口浩二 (松下電子 半導体社) ,  藤本晶 (和歌山工高専) ,  金島岳 (大阪大 大学院基礎工学研究科) ,  奥山雅則 (大阪大 大学院基礎工学研究科)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 61st  号： 2  ページ： 705  発行年： 2000年09月03日 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (8件)： フォト ,  レフレクタンス ,  分光法 ,  Si ,  SiO2 ,  界面 ,  応力 ,  評価