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J-GLOBAL ID：201302265110157051   整理番号：13A1678939

高温超伝導バルクによる磁気浮上を適用したフォトマスク用スピン処理装置の研究開発-ターンテーブル振動特性とその抑制法の検討-

Research and Development of Non-contact Spin Processor for Photo Mask Production Applying Magnetic Levitation Using HTS Bulks-Investigation of Vibration Characteristics of Turntable and Its Suppression Method-

著者 (5件)： 齋藤公世 (新潟大) ,  福井聡 (新潟大) ,  岡徹雄 (新潟大) ,  小川純 (新潟大) ,  佐藤孝雄 (新潟大)
資料名： 電気学会超電導応用電力機器研究会資料  (電気学会研究会資料)
巻： ASC-13  号： 22-42  ページ： 27-32  発行年： 2013年09月24日 
JST資料番号： L1912A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 超電導磁気浮上を利用してターンテーブル上のフォトマスクを非接触でスピン処理させる装置における浮上ディスクの重心,幾何センタ,ならびに磁気センタの不一致を統合し,振動軽減を達成した。非接触状態でターンテーブルを浮上回転させる低慣性スラスト浮上方式の構成,浮上マグネット,電磁誘導カップリングの構造を説明し,動特性から振動が目標を達成していないことを示した。また,磁気浮上ディスクが低速から中速,高速に変化する際に回転の中心が磁気センタから重心に移動することを示し,振動の原因が重心,磁気センタおよび幾何センタの不一致によることを示した。磁気センタ,幾何センタならびに重心の可視化による統合手順について述べ,統合による振動低減効果を実験により実証した。

シソーラス用語： *高温超伝導体 ,  *磁気浮上 ,  *フォトマスク ,  スピン ,  回転 ,  制御方式 ,  *ターンテーブル ,  機械振動 ,  防振 ,  スピン制御 ,  回転制御 ,  振動特性 ,  *マスク
準シソーラス用語： *半導体製造装置

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (3件)：

• S. Fukui, K. Kazama, S. Sekiya, J, Ogawa, T. Oka, T. Sato, S. Sorimachi,K. Saito, S. Miyazaki “Research and Development of Non-contact Spin Processor for Clean Process in Semiconductor-related-production System by Applying HTS Magnetic Levitation”, IEEE Trans. on Applied Superconductivity, Vol.20, pp.977-980 (2010)
• K. Saito, S. Fukui, J. Ogawa, T. Oka, T. Sato, S. Sorimachi, S. Miyazaki “Development and test of model apparatus utilizing HTS magnetic levitation for non-contact spinning clean-up processors of photo mask production”, IEEE Trans. on Applied Superconductivity, Vol.21, pp.2241-2244(2011)
• K. Saito, S. Fukui, M, Maezawa, J. Ogawa, T. Oka, T .Sate “Development and test of model apparatus of non-contact spin processor for photo mask production applying radial-type superconducting magnetic bearing”, Physica C, Vol.484, pp321-324(2013)

タイトルに関連する用語 (9件)： 高温超伝導 ,  バルク ,  磁気浮上 ,  フォトマスク ,  スピン ,  研究 ,  開発 ,  ターンテーブル ,  振動特性