特許
J-GLOBAL ID:201303018260064066 液中プラズマ成膜方法、その方法により成膜される被覆膜および液中プラズマ成膜装置
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
大川 宏
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-236888
公開番号(公開出願番号):特開2010-070782
特許番号:特許第5247323号
出願日: 2008年09月16日
公開日(公表日): 2010年04月02日
請求項(抜粋):
【請求項1】 原料を含む液体中に、基材と該基材の被成膜面を覆う複数の貫通孔をもつマスクとを、前記マスクを前記被成膜面と間隙をもたせて配置する配設工程と、
前記液体中に気泡を発生させる気泡発生工程と、
前記原料からなるプラズマを前記気泡に発生させるプラズマ発生工程と、
を経て、前記プラズマを内包する前記気泡を前記マスクを通じて前記被成膜面に接触させて、該被成膜面に前記原料の分解成分を堆積させることを特徴とする液中プラズマを用いた成膜方法。
IPC (2件):
C23C 16/505 ( 200 6.01)
, C23C 16/04 ( 200 6.01)
FI (2件): 引用特許: 審査官引用 (4件) - 保護膜
公報種別:公開公報
出願番号:特願2006-275698
出願人:財団法人理工学振興会
- シリコン酸化膜の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2005-099536
出願人:株式会社豊田自動織機, 国立大学法人愛媛大学
- 液中プラズマ発生装置および薄膜形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-313979
出願人:株式会社テクノネットワーク四国
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